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7PECVD返工流程工艺文件
PECVD不合格片返工工艺规程 1、适用范围 适用于PECVD生产后，SiN膜不合格片的返工处理。 2、准备工作 2.1、将PECVD后，经过检验挑选出来的SiN膜不合格片统一保存，进行返工处理。 2.2、不合格片包括：较大的色斑，较多的水点印，颜色明显不均匀，与深兰色相差较大等。 2.3、将同一规格的硅片统计数量后，由生产调度开具返工流程单，组成一个返工批，进行返工处理。 3、工艺操作 3.1、按照《去磷硅玻璃清洗工艺规程》的操作规程进行操作，将已经生成的SiN膜腐蚀掉。 3.2、清洗后检查硅片表面，看硅片表面的SiN膜是否已经腐蚀干净（硅片表面是否呈现硅的本色）。 3.3、SiN膜已经腐蚀干净的硅片流入PECVD工序，重新做SiN减反射膜。 3.4、SiN膜没有腐蚀干净的硅片则重新进行返工处理。 4、注意事项 4.1、操作过程中小心操作，避免碎片。 4.2、操作过程中严格按照《去磷硅玻璃清洗工艺规程》的操作规程进行操作。 4.3、操作过程中必须安全使用化学试剂及安全使用清洗机。 编制： 审核： 批准： 日期： 发放部门：制造部 制造部工场 品管部 去磷硅玻璃清洗工艺规程 设 备、仪 器 工 具、夹 具 设备 仪器规格或代号 名 称 规格或代号 四槽清洗机 搬运车 甩干机 JX0400型 特制 清洗花篮 片架 周转箱 测定支架 玻璃量杯 塑料量杯 玻璃量筒 塑料量筒 酸式滴定管 碱式滴定管 塑料勺 TEF镊子 特制 125×125或156×156 500mL 500mL 50Ml 50mL 2L 材料名称 规 格 动 力 等刻后的硅片 HF HN4F HCl 125×125mm或156×156mm 分析纯 分析纯 分析纯 50HZ 220V 氮气压力：≥×105Pa 去离子水:（≥18MΩ） 温度： （25±5）℃ 湿度： 工艺卫生等级 预 防 措 施 穿戴工作服、帽、口罩 防尘手套 防护工作服 塑胶围裙 一次性手套 受控状态： 编号：QB/JX/GY051-2005 中国江阴浚鑫科技有限公司 第2页 共3页
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