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財團法人國家實驗研究院
國家奈米元件實驗室
『』
規範書
壹、 目的 2
貳、 設備規範 2
參、 規格審查文件 7
肆、 教育訓練 7
伍、 測試與驗收 7
陸、 付款條件 9
柒、 保固 9
低溫微波加熱系統
目的
本招標規格書適用於下述之設計、製造、運輸及測試等之一般要求。若本招標規格書有任何疑慮依業主解釋為準。設備
低溫微波加熱系統整體需求規劃及規格建議如下：【數量：1套】
製程應用:
機台系統可低溫摻質活化(LTA)
機台系統可低溫氧化(LTO)
NiSi(Nickel Silicide)之形成
系統要求規格 :
製程規格
低溫摻質活化(LTA)，(200mm wafer
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