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平板基底对氩气氢气等离子喷涂射流场影响的流体-材料与测试网
第 卷 第 期 机 械 工 程 材 料 ３６ ９ Ｖｏｌ．３６ Ｎｏ．９ 年 月 ２０１２ ９ Ｓｅ． ２０１２ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｆｏｒ ＭｅｃｈａｎｉｃａｌＥｎｉｎｅｅｒｉｎ ｐ ｇ ｇ 平板基底对氩气 氢气等离子喷涂射流场影响的 流体动力学模拟 夏碧珠，郑振环，李 强 （福州大学材料科学与工程学院，福州３５０１０８） 摘 要：建立了氩气氢气等离子射流在空气中流动、传热的三维数学模型，基于计算流体动力 学 软件，运用 算法求解控制方程，使用标准 湍流模型结合组合扩散系数法，模 Ｆｌｕｅｎｔ ＳＩＭＰＬＥ κε 拟了自由等离子射流和平板基底情况下等离子射流各区域的温度、速度和湍动能分布。结果表明： 平板基底对射流上游区域影响较小，但在基底附近区域速度、温度及组分浓度均沿基底表面向周围 铺开；基底对射流速度的影响大于其对温度的影响，距离基底１５ｍｍ处速度开始偏离自由射流，并 逐渐减小为 ，而温度在距离基底 处开始偏离自由射流下降至 ；基底附近的压力分布 ０ ５ｍｍ ６００Ｋ 导致基底前端速度沿径向呈“驼峰”状分布，出现对称的速度极大值。 关键词：等离子喷涂；射流；基底；交互作用；数值模拟 中图分类号： 文献标志码： 文章编号： （ ） ＴＧ１７４．４４ Ａ １０００３７３８２０１２０９００９８０７ 犉犾狌犻犱犇狀犪犿犻犮犛犻犿狌犾犪狋犻狅狀犳狅狉犈犳犳犲犮狋狅犳 狔 犉犾犪狋犛狌犫狊狋狉犪狋犲狅狀犃狉犎 犘犾犪狊犿犪犛狉犪犑犲狋犉犻犲犾犱 ２ 狆 狔 ， ， 犡犐犃犅犻狕犺狌 犣犎犈犖犌犣犺犲狀犺狌犪狀 犔犐 犻犪狀 犵 犙 犵 （ ， ， ， ） ＳｃｈｏｏｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｉｎｅｅｒｉｎ ＦｕｚｈｏｕＵｎｉｖｅｒ
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