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MP700型磁控溅射操作规程
本文由豆豆相传批量上传(关于豆豆相传,请访问:) | [名称]MP700型磁控溅射操作规程.doc [大小]41984 [时间]2010/4/17 7:52:44 [编辑]2010/4/17 7:52:44 MP700型磁控溅射操作规程.doc 摘要:本文由豆豆相传批量上传(关于豆豆相传,请访问:) | [名称]MP700型磁控溅射操作规程.doc [大小]41984 [时间]2010/4/17 7:52:44 [编辑]2010/4/17 7:52:44 关键词:豆豆相传 MP700型磁控溅射操作规程 类别:其它MP700型磁控溅射操作规程 开机: 开分子泵水冷,开空压机气阀,打开前极阀(泵1),开气动阀,开机械泵1,2。 下面板压强为10-1Pa时关前极阀,开预抽,开分子泵电源,按启动按钮。 压强5Pa以下,同时分子泵达400Hz时,关预抽,开前极阀。 气压在5Pa以下可以打开闸板阀1,开闸板阀2前必须关闭气动阀,如不开闸板阀2则气动阀可一直打开。 射频电源打开预热10分钟。 通气,开截止阀,开阀控,调节气体流量旋钮(氩气),开射频,调节射频清洗功率。调节C1+C2使Reflected指针最低(气压在1×100Pa左右,可通过关闭闸板阀1来进行调节)。分子泵如未启动,则其示数会闪烁,启动后示数是稳定的。 送样品过程:手摇到91cm处(升降钮指↑)放下升降钮,继续摇至95cm左右,听到嗒的一声后手摇后退至91cm以后再抬起升降钮。 取出样品过程:放下升降钮摇至95cm处抬起升降钮,后退至样品室。 关闭射频清洗电源(功率先降到最低) 烘烤处理,设定烘烤温度,按工作键。 关机: 关闭气瓶阀门,关闭气体,旋钮调至最低 关闭截止阀 关分子泵闸板阀1 关分子泵电源,按停止后等待400Hz降至0Hz,然后关总电源 电源上电菜单上关闭电源(靶电源和射频电源) 关前极阀,关机械泵1,2 手摇样品杆至黄色按钮处,关闭样品库与镀膜室间的插板阀 关闭总电源 关闭循环水及阀门;关闭气泵阀门。 溅射电源0.5A 450V 60% 注意事项: 空压机:开始实验前打开空压机气阀,实验完毕后关闭气阀。 气体瓶:实验结束后关闭气瓶阀门,防止气体泄漏。 循环水冷:开始试验前将水冷机的两个阀门打开(位于水冷机后面最下方),实验完毕后将阀门关闭,防止循环水渗漏。 上盖提升:方法1:确认机械手退回原位;确认闸板阀2(位于样品室与镀膜室中间)关闭;打开分子泵上方的镀膜室气阀放气,放气完毕后可以进行上盖提升操作。方法2:确认机械手退回原位;打开闸板阀2;打开样品室下方的样品室气阀将样品室与镀膜室共同放气,放气完毕后可以进行上盖提升操作。 异常断电:迅速关闭分子泵闸板阀1;关闭主机电源、分子泵电源、循环水冷电源;关闭水冷机阀门、空压机阀门、气瓶阀门;复位所有按钮。待确认电力系统恢复后,进行正常的开机操作,确认各部分是否能够正常工作。 循环水冷异常:迅速关闭分子泵闸板阀1;按正常顺序关闭分子泵,如分子泵按键已经保护锁死则直接关闭分子泵电源;关闭循环水冷电源与阀门;然后按照关机顺序关机(跳过第3、4步)。待确认循环水冷系统恢复后,进行正常的开机操作,确认各部分是否能够正常工作。 插板阀使用:使用圆盘轻轻的转动插板阀,尽量减少使用摇柄开关阀门的次数。关闭阀门时拧到十字螺钉中心对准白线标志位时停止,力量要适中。 注:建议本底真空5×10-4Pa,氩气:20,磁性靶起辉:0~10Pa。熟悉操作规程之后,可以根据本次的试验目的适当的调整操作顺序,但是初期熟悉操作和试验环境时一定要严格按照操作规程进行,同时每次要详细填写MP700磁控溅射使用记录表。 建议基片清洗步骤: (1)用洗涤剂清洗玻璃基片(带一次性手套)。 (2)将清洗过的玻璃基片再用去离子水进行超声波清洗10min。 (3)配制稀硫酸,并用其对玻璃基片进行加热清洗。 (4)用去离子水对玻璃基片进行超声波清洗10min。 (5)用自配的玻璃水清洗玻璃基片,并超声波清洗10min。 (6)用去离子水对玻璃基片进行超声波清洗10min。 (7)用丙酮对玻璃基片进行超声波清洗10min。 (8)用去离子对玻璃基片进行超声波清洗10min。 (9)用无水乙醇对玻璃基片进行超声波清洗10min。 (10)将清洗过的基片置于无水乙醇中备用(用前进行烘干)。 本文系用户使用豆豆相传[FinDoc.CN]批量上传的结果,文中内涉及到的资料均由用户自行上传,用于学习交流经验,作品其著作权归原作者所有。不代表豆豆相传[FinDoc.CN]赞成本文的内容或立场,豆豆相传[FinDoc.CN]仅为批量上传辅助工具,不对其付相应的法律责任! 信息记录物理与材料研究室 地址:北京航空航天大学物理系,主楼北406
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