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柔性高阻隔薄膜材料的研究现状-包装工程
包 装 工 程 第 38 卷 第 17 期
·70 · PACKAGING ENGINEERING 2017 年 9 月
研究进展
柔性高阻隔薄膜材料的研究现状
徐汾丽 1 ,周美丽 2 ,陈强 1
(1.北京印刷学院,北京 102600;2. 山东工艺美术学院,济南 250014 )
摘要: 目的 为柔性高阻隔薄膜的应用提供理论指导。方法 综述柔性高阻隔膜的应用现状及存在问题,
总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用,展望高阻
隔膜包装材料的发展前景。结果 高阻隔薄膜制备工艺趋向于单次制备,采用等离子体辅助原子层沉积
技术是制备超高阻隔薄膜的首选,原子层沉积(ALD )和分子层沉积(MLD )结合也是获得超高阻隔
薄膜的未来发展方向。结论 快速、高效地制备柔性高阻隔薄膜是包装工业的发展趋势。
关键词:柔性高阻隔薄膜;热蒸发;化学气相沉积;原子层沉积
中图分类号:TB484.3 文献标识码:A 文章编号: 1001-3563(2017)17-0070-07
Research Status of Flexible High Barrier Film Materials
1 2 1
XU Fen-li , ZHOU Mei-li , CHEN Qiang
(1.Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China;
2.Shandong University of Art Design, Jinan 250014, China)
ABSTRACT: The work aims to provide the theoretical guidance for the application of the flexible high barrier films. The
application status and existing problems of flexible high barrier film were summarized. The fabrication methods (such as
thermal evaporation, chemical vapor deposition and atomic layer deposition (ALD)), principles, characteristics and ap-
plication of the flexible high barrier films were summed up. The development prospect of the high barrier film packaging
materials wasforecasted. The preparation technology of highbarrier film tended to be a singlestep. The use of plas-
ma-assisted ALD technique was the first choice for the preparation of ultra-high barrier film. The combination of ALD
and molecular layer deposition (MLD) was the future development direction to obtain the ultra-high b
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