双重图形技术优化设计.pdfVIP

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2017-11-03 发布于北京
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第25卷第12期机电工程 V01．25No．12 2008年12月 MechanicalElectrical Dec．2008 EngineeringMagazine 双重图形技术的优化设计潘意杰，陈晔 (浙江大学超大规模集成电路研究所，浙江杭州310027) 摘要：作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一，双重图形技术(DPT)面临的诸多复杂过程将影响其在制造领域的迅速应用，其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用，在重分解修正后的版图与前次OPC数据一分段和段偏移量之间建立了关联，并进行了相关实验。实验结果表明，在保证版图校正精确度的同时，可节省大量的运行时间，同时也有效地缩短了DPT的流程。关键词：可制造性设计；双重图形技术；光学邻近校正；分辨率增强技术；重用中图分类号：TN305．7 文献标识码：A fordouble Optimizationdesign patterningtechnology PAN Ye Yi．jie．CHEN VLSI 31 (Instituteof Design，ZhejiangUniversity，Hangzhou0027，China) for of Abstract：Asoneofcandidatesnextnodein circuit(IC)，doable lithographyintegrated patterning that it from utilizedin mostconcernedfactoristhatits complicatedprocesssteps mayprevent being production．The complexity anddatavolumeincrease and dramatically．Byanalyzingdecompositionproblemsopticalproximity scheme between from and basedon wasset OPC frag· segments，arelationshipup changedlayout re·splitpreviousdata，namely mentationandoffset arecarriedoutandshowthata amountofrnntimeissavedwhile the information．Experiments large keeping samesatisfied inDPTisshortened resultsandthecircle efficiently． for Keywords：designmanufacturabiIity(DFM)；doublepatterningtechnology(D盯)；opticalproximitycorrection(O