阵列电极研究F 对铜在5% Na2SO4 溶液中腐蚀电化学行为的影响.pdfVIP

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2017-10-12 发布于福建
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阵列电极研究F 对铜在5% Na2SO4 溶液中腐蚀电化学行为的影响.pdf

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第 21卷第 7 期中国有色金属学报 2011年 7 月 Vol.21 No.7 The Chinese Journal of Nonferrous Metals Jul. 2011 文章编号：10040609(2011)07161409 − 阵列电极研究 F 对铜在 5%Na SO 溶液中 2 4 腐蚀电化学行为的影响吴红艳, 周琼宇, 钟庆东, 盛敏奇, 王毅, 林海 (上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室, 上海 200072) − 摘要：采用阵列电极技术、扫描电子显微镜、自腐蚀电位、极化曲线和电化学阻抗等电化学方法研究 F 对铜在 − 5%Na SO 溶液中腐蚀电化学行为的影响。结果表明：F 使铜表面的腐蚀电流密度增大，自腐蚀电位负移，电化 2 4 学阻抗降低，铜表面各区域的自腐蚀电位标准方差由 21. 08增加到 28.31，阻抗标准方差由 1.431增加到 2.071。 − F 的存在使铜表面的腐蚀产物膜层的形貌及结构发生明显变化，腐蚀产物膜层由均匀致密分布的颗粒状转变为凹 − 凸不平、疏松的多坑状。说明 F 能加剧铜的腐蚀并破坏铜表面腐蚀产物膜层，加剧局部微区腐蚀的发生，铜腐蚀趋于不均匀。 − 关键词：阵列电极；铜；F ；电化学阻抗谱；腐蚀中图分类号： TG 174 文献标志码：A − Effect of F on corrosion electrochemical behavior of copper in 5％Na SO solution by using electrode array 2 4 WU Hongyan, ZHOU Qiongyu, ZHONG Qingdong, SHENG Minqi,WANG Yi,LIN Hai (Key Laboratory of Modern Metallurgy and Material Processing of Shanghai,