分步升温法制备有机硅烷嫁接高岭石-IngentaConnect.PDF

第41 卷第11 期 李 平 等：氮气保护下热处理胶状黄铁矿的矿物特性演化 · 1571 · 第41 卷第11 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 41 ，No. 11 2 0 1 3 年 1 1 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY November ，2013 DOI ：10.7521/j.issn.0454–5648.2013.11.18 分步升温法制备有机硅烷嫁接高岭石 1,2 2 2 佟景贵 ，何宏平 ，陶 奇 (1. 深圳职业技术学院，广东 深圳 518055 ；2. 中国科学院广州地球化学研究所，广州 510640) 摘 要：高岭石表面的有机硅烷化可以显著提高其表面与有机物的亲和性，从而在纳米复合材料、环境吸附材料等领域具有广阔的应用前景，是实现 高岭石资源高效利用的重要途径。先将二甲基亚砜(DMSO)与高岭石反应，获得DMSO 插层高岭石前驱体；然后采用自制的密闭容器动态调压装置， 在N2 气气氛下，分别在 117、173 和200 ℃ 3 个阶段，使DMSO 插层高岭石与γ-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)充分反应。反应产物的X 射线衍射、 Fourier 变换红外光谱及热重–差热分析结果均表明，APTES 成功嫁接于高岭石的内表面，获得了APTES 嫁接高岭石复合物。嫁接产物的d(001) = 0.997 nm ，表明APTES 已成功进入高岭石的层间；同时，嫁接反应后，高岭石内表面羟基伸缩振峰(3 695 cm–1) 的强度显著减弱，说明在嫁接反应过程中， 内表面羟基参与了缩合反应并消耗了部分内表面羟基；在其热重曲线中，位于430 ℃附近的质量损失主要归因于嫁接有机硅的脱失。与已有研究成果 相比，采用密闭容器动态调压装置，以分步升温法可以降低有机硅烷嫁接反应的温度、减少N2 用量。 关键词：分步升温法高岭石；有机硅；嫁接反应；结构表征 中图分类号：TQ174.75 文献标志码：A 文章编号：0454–5648(2013)11–1571–06 网络出版时间：2013–10–28 15:40:49 网络出版地址：/kcms/detail/11.2310.TQ1540.018.html Grafting γ-aminopropyltriethoxysilane onto the Inner Surface of Kaolinite via 3-Step Thermal Treatment TONG Jinggui1,2 2 2 ，HE Hongping ，TAO Qi (1. Shenzhen Polytechnic, Shenzhen 518055, Guangdong, China; 2. CAS Key Laboratory of Mineralogy and Metallogeny, Guangzhou Institute of Geochemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou 510640, Chin