宽带隙薄膜材料场电发射研究的背景！现状和问题3.PDF

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2017-09-10 发布于江苏
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宽带隙薄膜材料场电发射研究的背景！现状和问题3

宽带隙薄膜材料场电子发射研究的背景现状和问题3 ! 陈光华邵乐喜贺德衍北京工业大学应用物理系北京兰州大学物理系兰州刘小平湛江师范学院物理系湛江摘要介绍了以金刚石为代表的宽带隙薄膜材料场电子发射研究背景和现状对金刚石类金刚石立方 ! ⁄≤ ! 氮化硼氮化铝和碳化硅薄膜场电子发射研究的进展进行了评述着重介绍了发射性能与薄膜的 ! ≥≤ 结构特征杂质含量和处理方法间的关系并讨论了研究中存在的问题 ! 关键词场电子发射宽度隙薄膜材料 ΤΗΕΒΑΧΚΓΡΟΥΝΔ,ΧΥΡΡΕΝΤΣΤΑΤΥΣΑΝΔ ΥΕΣΤΙΟΝΣΧΟΝΧΕΡΝΙΝΓ Θ ΕΛΕΧΤΡΟΝΦΙΕΛΔΕΜΙΣΣΙΟΝΦΡΟΜ ΩΙΔΕΒΑΝΔ ΓΑΠΦΙΛΜΣ ≤∞∏2∏ (Δε αρτμεντο Α λιεδΠησιχσ, Βειιν ΠολτεχηνιχΥνιϖερσιτ , Βειιν ) π φ ππ ψ ϕ γ ψ ψ ϕ γ ≥ 2÷ ∞⁄2≠ (Δε αρτμεντο Πη σιχσ, Λανζηου Υνιϖερσιτ , Λανζηου ) π φ ψ ψ ÷2° (Δε αρτμεντο Πη σιχσ, Ζηανιαν ΝορμαλΧολλε ε, Ζηαν ιαν ) π φ ψ ϕ γ γ ϕ γ Αβστραχτ ≤∏ ∏2 ∏∏∏√× ∏∏ ∏ ∏±∏ √∏∏ Κε ωορδσ ψ 较高能耗大液晶显示器虽能在低压大电流