半导体工艺2.pdfVIP

下载本文档

7
0
约2.77万字
约 55页
2017-08-16 发布于河北
举报
版权申诉

半导体工艺2.pdf

1、本文档共55页，可阅读全部内容。
2、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

半导体工艺2

第四章第四章硅和硅片的制备硅和硅片的制备 1 本章目标本章目标硅材料精炼成半导体级硅硅材料精炼成半导体级硅（ semiconductor grade silicon SGS ）（semiconductor grade silicon SGS ）晶体结构和生长方法晶体结构和生长方法硅晶体的主要缺陷及种类硅晶体的主要缺陷及种类硅片制备硅片制备硅片质量的七个标准硅片质量的七个标准外延外延 2 4.1引言 4.1引言 4.2 半导体级硅制备半导体级硅的过程(SGS) 步骤描述反应式 SiC (s) + SiO (s) Si (l) + SiO(g) + 2 1 制备冶金级硅石 CO (g) 化学反应提纯生成 Si (s) + 3HCl (g) SiHCl (g) + H (g) + 3 2 2 (SiHCl3) heat 3 生产半导体级硅 (SGS) 2SiHCl3 (g) + 2H2 (g) 2Si (s) + 6HCl (g) 3 西门子工艺提纯的材料有很高纯度 99.9999999% (共９个９) SiHCl Polycrystalline 3 silicon rod 多晶硅棒 4 4.3 晶体结构 4.3 晶体结构非晶材料（不能使用）材料不仅有高非晶材料（不能使用）材料不仅有高纯度，必须是单晶材料纯度，必须是单晶材料晶胞晶胞多晶和单晶结构多晶和单晶结构晶向晶向 5 晶体的原子排列晶体的原子排列 Figure 4.2 6 非晶原子结构（Amorphous Atomic 非晶原子结构（