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微通道板清洗设备研制 development of cleaning equipment for microchannel plate

技术专栏 Cohmm Technology 微通道板清洗设备研制 严诚1,王益军2,张正君1,苏德坦1,丛晓庆1,王锐廷3 (1。托方褒撬搜寒黢份宥殴公司,托京100089;2。成鬻簿范学貔耪理系,陕嚣残|5嚣712000; 3.北京七星肇创电子股份有限公司,北京100016) 摘要:基予微通遭板的清洗工艺,设计了清洗设备的结构,并对设备的核心部停详细说明。 裁麓液俸射流喷射实现喷淋清洗,采薅液俸液下喷豢循环实现波傣的紊流,减少了搅动和传磅系 统为系统带来的复杂性。利用超声和兆声双频率清洗实现了对MCP不同粒径腐蚀产物和污染物 的清洗,工作槽斜底式设计和频率扫描改进槽内声场的均匀·l#-,功率精度达到±10%。储液槽预 热结合在线加热,使液体滋发耩度迭4-0。5℃,改善了麓CP清洗主要工艺参数酶稳定槛和一致 性,体现了湿法清洗的独创性和实用性,实现了清洗工艺过程的半自动化。 荚键词:微通道板;溅法清洗;工艺模瑰;设备研制 巾图分类号:TN223文献檬识码:A 文章缡鼍:1003。353X(2008)03-0208.04 ofCleaning forMierochannelPlate DevelopmentEquipment Yah Chen91,Wang喇岔,ZhangZhengjun‘,Su Ruiting多 Detanl,CongXiaoqin91,Wang (1.North朋觯Ira/onTechno/ogyCo.,删.,Be/ring Normal 100089,Oh/ha;2.Oept.ofPhysics,Xmnyang 100016,China) College,Xianyang712000,Ch/na;3.蚍Seue珊tm肌幽喈ElectronicCo.,删.,B械jmg structureof WaS basedon ofmierochannel Abstract:钰e cleaningeqmpmentdesigned cleaningprocess the of were and we弛 plate.andkeypartsequipmentexpounded.Liquidsprinkleschlichtingstreaming achievedwith and reducedthe size liquidspurt subaqueous jet system under-liquid complexity。Different and werecleanedultrasonicand etchingproductspollutants by megasoniecleaningtechnology。爨糟acoustic field WaS tankincline of attainedto uniformity by improvedcleaning design.Improvedaccuracypower of tankand of ±10%.Combined on—line prehea

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