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2012年CTD培训资料内部交流版课件
2012年CTD培训资料的解读和分享;CTD简介;CTD文件结构;;;CTD对药品研发的影响;汇报内容;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;关键工艺参数的确定方法--辉瑞;关键工艺参数的确定方法--辉瑞;关键工艺参数的确定方法--辉瑞;关键工艺参数的确定方法--辉瑞;关键工艺参数的确定方法--辉瑞;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;原料药生产工艺资料要求;汇报内容;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;杂质研究;一、概述 ;(二)杂质的分类 ;有机杂质:
包括工艺中引入的杂质和降解产物等,由于这类杂质的化学结构一般与活性成分类似或具渊源关系,故通常又可称之为有关物质。
无机杂质:
是指在原料药及制剂生产或传递过程中产生的杂质,这些杂质通常是已知的,主要包括:反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其它残留的金属、无机盐、助滤剂、活性炭等。
残留溶剂:
在合成、纯化、制剂过程中残留所使用的溶剂,这些溶剂通常是已知的。
;二、国内外对药物杂质研究的相关技术要求;报告限度;报告限度(Reporting Threshold):
超出此限度的杂质均应在检测报告中报告,并应报告具体的检测数据。
鉴定限度(Identification Threshold):
超出此限度的杂质均应进行定性分析,确定其化学结构。
质控限度(Qualification Threshold):
质量标准中一般允许的杂质限度,如制订的限度高于此限度,则应有充分的依据。 ;1、有机杂质的限度确定 ;2、无机杂质的限度确定 ;重金属;3、残留溶剂限度确定 ;溶剂名称;溶剂名称;(二)杂质检测技术要求;(1)有机杂质的分析方法; 应根据药物及杂质的理化性质、化学结构、杂质的控制要求等确定适宜的检测方法。由于各种分析方法均具有一定的局限性,因此在进行杂质分析时,应注意不同原理的分析方法间的相互补充与验证,如HPLC与TLC及HPLC与CE的互相补充,反相HPLC系统与正相HPLC系统的相互补充,HPLC不同检测器检测结果的相互补充等。
;(2)无机杂质的分析方法 ;不挥发性无机杂质采用炽灼残渣法进行检测。
某些金属阳离子杂质(银、铅、汞、铜、镉、铋、锑、锡、砷、锌、钴与镍等)笼统地用重金属限度检查法进行控制。因在药品生产中遇到铅的机会较多,且铅易积蓄中毒,故作为重金属的代表,以铅的限量表示重金属限度。; 对某种(些)特定金属离子或上述方法不能检测到的金属离子作限度要求,可采用专属性较强的原子吸收分光光度法或具有一定专属性的经典比色法(如采用药典已收载的铁盐、铵盐、硒等的检查法检测药品中微量铁盐、铵盐和硒等杂质)。虽然重金属检查法可同时检测砷,但因其毒性大,且易带入产品中,故需采用灵敏度高、专属性强的砷盐检查法进行专项考察和控制,各国药典收载的方法已历经多年验证,行之有效,应加以引用。
;(3)残留溶剂的检测方法;三、杂质来源;杂质谱分析--有机杂质为例;杂质谱分析;杂质谱分析;杂质谱分析;杂质谱分析;杂质谱分析;杂质谱分析;杂质谱分析;杂质谱分析;杂质谱—甄别不适宜的合成路线;杂质谱分析;杂质谱分析;谢谢!;CTD文件结构
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