4 Contamination monitoring and analysis in （4污染监测和分析）.pdfVIP

下载本文档

24
0
约7.05万字
约 23页
2017-08-11 发布于浙江
举报
版权申诉

4 Contamination monitoring and analysis in （4污染监测和分析）.pdf

1、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

4 Contamination monitoring and analysis in （4污染监测和分析）

Contamination monitoring and analysis in semiconductor manufacturing 57 4 x Contamination monitoring and analysis in semiconductor manufacturing Baltzinger Jean-Luc and Delahaye Bruno Altis Semiconductor France 1. Introduction: Contamination on wafers 1.1 Definition of the different type of contamination Contamination is defined as a foreign material at the surface of the silicon wafer or within the bulk of the silicon wafer. The contamination can be particles or ionic contamination, liquid droplets… The mechanism of contamination of silicon wafer is summarized on figure 1 (Leroy, 1999):  The source of contamination  The transportation of the contamination  The location of the contamination: surface, bulk  The evolution of the contamination: how to remove it? Does the cleaning remove the contamination? Does the cleaning bring the contamination? The chemistries of the cleaning solutions which are described within the figure 1 are able to remove particles or metallic contamination. They can also bring both of these co