基于bicmos工艺的版图与原理图匹配验证 lvs verification based on bicmos process.pdfVIP

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2017-08-13 发布于上海
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基于bicmos工艺的版图与原理图匹配验证 lvs verification based on bicmos process

器件制造与应闭 ofⅨ=vi∞ M衄证喊uIing锄dA耐ic撕on 基于BiCMOS工艺的版图与原理图匹配验证蔡斌君1’2，黄其煜1，龚大卫2 摘要：从BicMOS工艺着手，结合一个基本的基准电路，从实施命令文件编写的角度，重点论述了模拟集成电路的版图与原理图匹配验证中的一个重要环节，即器件的正确识别与图层间节点信息的传输。就其中易出现的一些问题，逐一提出了具体的解决方案，同时借助专业验证平台演示了如何运用图层间的逻辑运算，将其中一些处理技巧转化为可以被验证程序执行的语言，以达到快速、准确验证的目的。验证的实际结果证明这些解决方案是可行并有效的。关键词：匹配验证；命令文件；节点；逻辑运算；器件识别中图分类号：TN402文献标识码：A LVSVeri6cationBasedonBiCMOSProcess CAI HUANG GONGDa—wei2 Bin．junl”， Qi．yul， (1．scbof 0，^忆rDek湘，如s，sk，l咖i胁％昭U砌旭m渺，s^口啦面200030，劬i加； 2．A妣船甜Se，砌，ld蚴D，d缸m舡n删愕co孕。删幻n西，妇d，‰啦丽200233，仍iM) Abs仃act：WithabasicreferencecircuitaSa11 of versusschem砒ic(LVS) key layout example，point ve商cationon was whichwasdevice andnodali山mation ba8edaBiCMOS pmcessdiscu8sed， recogIlition tmn8ferbetweennentlledetajledsolutionstosomeissuesin thecomm趴dfileofLvS layers． key compiling were were tobefeasibleandefbctivethe results诵tllt11eaidof provided，whichproved by mnning Verification skillsof betweenthe tohandlethose prof色ssional platfbm．Relating lo西coperation drawinglayers werea180illustrated． problems words： com眦nd deVice Key LVS； file；node； operation； recogllition lo舀c 晶体管层次的器件，如金属氧化物半导体场效应晶 1 引言体管、双极型晶体管以及一些无源器件如电阻、电 versus 版图与