固结磨料抛光LiB 3O5 晶体的抛光液优化 - Ingenta Connect.PDFVIP

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2017-08-14 发布于天津
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3+ 第 41 卷第 6 期杨志平等：新型橙红色荧光粉 KNaCa (PO ) :Sm 的发光性能 · 789 · 2 4 2 第 41 卷第 6 期硅酸盐学报 Vol. 41 ，No. 6 2 0 1 3 年 6 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY J u n e ， 2 0 1 3 DOI ：10.7521/j.issn.0454–5648.2013.06.12 固结磨料抛光LiB3O5 晶体的抛光液优化 1,2 1,2 3 1,2 1,2 李军，李标，胡章贵，朱永伟，左敦稳 (1. 南京航空航天大学机电学院，南京 210016 ；2. 江苏省精密与微细制造技术重点实验室，南京 210016 ； 3. 中国科学院功能晶体与激光技术重点实验室，中国科学院理化技术研究所，北京 100190) 摘要：LiB O (LBO)非线性光学晶体软、脆的特点增加了超精密加工的难度。采用固结磨料抛光技术对 LBO 晶体(110)面进行抛光，研究酸性、中 3 5 性和碱性抛光液 pH 值调节剂及 pH 值对晶体抛光材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响。结果表明：酸性抛光液对 LBO 晶体表面的腐蚀作用太大，中性抛光液的腐蚀作用太小，不适合抛光 LBO 晶体；乙二胺配制pH 值为 11 的无磨料碱性抛光液固结磨料抛光 LBO 晶体(110)面，获得高的晶体表面质量，表面粗糙度 Sa 为 1.94nm ，表面损伤小。关键词：三硼酸锂晶体；固结磨料抛光；材料去除率；表面形貌；表面粗糙度中图分类号：TG356.28 ；TG580.692 文献标志码：A 文章编号：0454–5648(2013)06–0789–08 网络出版时间：2013–05–21 16:36:22 网络出版地址：/kcms/detail/11.2310.TQ1636.012.html Optimization of Fixed Abrasive Polishing Slurry for LiB O Crystal 3 5 1,2 1,2 3 1,2 1,2 LI Jun ，LI Biao ，HU Zhanggui ，ZHU Yongwei ，ZUO Dunwen (1. College of Mechanical and Electri