磁性物理11.PDF

磁性物理 11 技术磁化的基本原理 第七章 技术磁化的基本原理 7-1 磁化过程, 磁化曲线和磁滞回线 7-1-1、 三个过程 M M V s i ∑ i cosθ i 未磁化状态：M = 0 , 施加磁场 H，磁化强度ΔMH 出现。 =ΔM M V cosMΔθ+V Δ +cosVθ M cosθΔ H s si i i i i i s ∑ ∑ ∑ i i i ΔV , 畴壁位移过程（DWD ）, 磁场作用磁畴结构发生 i 重新调整，强磁物质中 Δcosθ , 磁畴转动过程（DR ）, i 磁化主要来源。 ΔMS , 内秉磁化过程 , 自发磁化强度的增长ΔM ， s 磁场下磁化强度超过自发磁化强度部分，顺磁过程 7-1-2、可逆和不可逆磁化 磁滞回线说明不可逆过程存在： 直到极限磁滞回线，不可逆过程 消失。 一般情况，在磁化曲线的任一部分三种过程都存在，但定量考虑 各有所重I and II: DWD; III: DR; IV: PM 可逆过程 改变磁场ΔH而连续改变ΔM ，对于一小的H增加无磁 滞。主要发生在M-H 曲线的初始部分和膝点以上。 不可逆过程，导致磁滞。 对于一小的H增量，产生大的，不连续的ΔM , Barkhausen跳跃，对于一负的ΔH发生磁滞。主要发生 在磁化曲线和磁滞回线的膝部分。 χ , χ +χ , χ ≅χ χ χ r ir Δi r max r χ : 增量磁化率; r: 可逆; ir: 不可逆, i: 初始； Δ ΔH −ΔH A C M A D B ⎯⎯→( ),Δ ⎯ ⎯⎯→≠ ( ) M 最大磁化率 :χm ,