自蔓延法制备Si3N4粉时氮气压力.pdfVIP

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销¨卷第1朔 中南工业大学学报(自然科学版1 Vol34 Nol V。I34N01 UN|V.TECHNOi。. Feb20{33 J.CENT.SOU+|IIt 自蔓延法制备Si。N。粉时的氮气压力 徐协文。2。刘其城。二,郑子樵 (1.中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙,410083 2.长沙电力学院化学系,湖南长沙,410077) 摘要:探讨了硅精在普通氨气和高啦氮气中的高温白蔓延各戍反应过程-分析了稀释越、氨气纯度与阻力、成型坯 体的气孔率等工艺参数对硅粉自蔓延过程的点把、最高燃烧温度厦产物特征的影响从热力学、动力学及sitN。热 分解过程几个方面分析了低氯气压力下燃烧舍成s1,N。的可行性.研究结果表明:只要最高燃烧温度不高于相应 6~2.6 氯气压力下sj,N.的热分解温度,就可d用SHs方法合成sbN.;井在氯气压力为0MPa时.以纯硅粉为 起始原料燃烧合成出游离硅舍量小于0.5%,P与Ⅱ相混合,粒度为I~2pm的sl,N,粉末;低氯气压力下硅粉的自 堇延合成反应,必须要引八sL、N。稀释荆,压坯气孔率控制在0—70“,否别反应不能进行;体系最高燃烧温度随着 氯气压力和压坯气孔奉的增加而升高;所需的最低氮气压力随硅粉粒度增大而提高;产物形态沿圆柱样径向有差 异,由外到里B—Si。N;相明显增加. 关键词:自蔓延高温合成;氯气;氮化硅将;热分解;合成 75+816 000805 中图分类号:TQl74 文献标识码:A 文章编号:1005‘3792(2003)01 采用自蔓延的方法台成Sj。N。粉““,存在2个 应设备为湘潭中山仪器仪表厂生产的SHS合成装 主要问题;一是制备的Si。N,粉.多为烧结活性较 置. 低的口一Si。N。”;二是合成时要在较高的氮气压力 将硅粉和氮化硅粉按一定配比放人行星式高能 球磨机中,加无水酒精,以WC球为研磨介质,混磨 下(大于3MPa)进行燃烧反应.Si。N。可用硅粉在 6h.然后烘干、研磨,再在不同的压力F成型成直径 300 MPa的氮气压力下自蔓延合成”]. 5 mmx 在此,作者通过分析硅粉的氮气压力条件,利用 为22mm和1mm及丘径x高为6 (10~30)mm的圆柱试样,每个样品在一端压成厚 牡度分别为3~5pm和15~60pm的硅粉,在氮气 压力为0.6~2.6 为2~4illiii、粒径为75pm(或50pm)的钛粉.把样 MPa时台成纯si,N;粉,并探讨 了合成的J二艺条件. 品放在样品台E,捌节钨蝗线圈与样品钛粉层之间 的距离至2mm左右.盖严反应釜,抽真空,JH压力 为0.2MPa的氮气排气1~2次,然后充以达到预定 1试验 压力的氮气.打开点火按钮,钨丝线圈通电,并点燃 Ti粉层,反应开始.当显示器L’Fi粉点火后,立即 所用原料为硅粉

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