硅基衬底中二次离子（簇）形成及能量分布的分析.pdfVIP

下载本文档

2
0
约5.38万字
约 43页
2017-07-20 发布于上海
举报
版权申诉

硅基衬底中二次离子（簇）形成及能量分布的分析.pdf

1、本文档共43页，可阅读全部内容。
2、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

硅基衬底中二次离子(簇)形成及能量分布的研究 ABSTRACT Inthisarticle．we theannealedSOI IonMass analyze sample、vimSecondary withitsfunctionsof Profileand CAMECA一6f Depth Energy Spectrometry to the andthe distributionofthe Distribution investigatesputteringprocess energy ion researchisfocusedonthe ionand cluster．Another relationship secondary among andtheinitial the ionbeam kinetic ofthe primary energy，theyield energy sputtered that article ions．Onthebaseof extractsthedeductionofthe research，the secondary withthe beam ionsandion distribution ion clusters’energy primary energy．The inthisarticleare to thetest of Ion researches hetpfutimprove techniqueSecondary Mass Spectrometry． IonMass clusterformation Keywords：SecondarySpectrometry、ion andemission、 ofthe ionsandion distribution clusters、total energy secondary sputteryield 摘要本文对退火SOI样品进行二次离子质谱深度分析和能量分析，揭示了硅和二氧化硅中离子(簇)的形成发射过程以及能量分布机理，并且在研究入射束能量与总粒子溅射产额、出射粒子初始动能关系的基础上，总结出了二次离子(簇) 能量分布随入射束能量改变的演变规律。本文的研究有助于改进二次离子质谱的分析技术。关键词：二次离子质谱、离子簇形成和发射、二次离子(簇)能量分布、总粒子溅射产额硅基衬底中二次离子(簇)形成及能量分布的研究第一章引言二次离予质谱是一种用于分折固体材料表面