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基于同步辐射光刻的多层微纳结构制造.pdf
第7卷第2期 纳米技术与精密T程 V01．7No．2
andPrecision Mar．2009
2009年3月 NanotechnologyEngineering
Basedon
Micro／NanoFabrication
Multi—Layer Synchron
Radiation
Lithography
乙I Susumu3
Yi．guil_．SUGIYAMA
(1．KeyLaboratoryforThinFilm Jiaotong
ofMicro／NanoFabrication
University，Shanghai200240，China；2．NationalKeyLaboratory Technology。
ShanghaiJiaotongUniversity，Shanghai200240，China；3．DepartmentofMierosystems。
Ritsumeikan
University，Kusatsu／Shiga525-8577，Japan)
as inthe and
materials。such attractedinterestsresearch
Abstract：Polymer polymethylmethacrylate(PMMA)．havegreat
their and
of circuits(IC)andmicro—electro-mechanicalto lowcost
developmentintegrated systems(MEMS)duerelatively
this fabricatedaPMMA—based micro／nanostructure radiation
easyprocess．Inpaper．we multi-layer byX—raysynchron
servesforsomedeviceswith suchasmicroactuators．The micro
lithography．which moving designedmulti-layer
pam
structureconsistsof140unitsof withthe andwidthof
interdigitatedparallel fingergap
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