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表面处理工艺;内容;物理气相沉积;;高真空 (HV) 高纯材料 清洁和光滑的衬底表面 提供能量的电源;真空”这一术语译自拉丁文Vacuo，其意义是虚无。其实真空应理解为气体较稀薄的空间。在指定的空间内，低于一个大气压力的气体状态统称为真空。真空状态下气体稀薄程度称为真空度，通常用压力值表示。 真空技术是基本实验技术之一。自从1643年托里拆利(E. Torricelli)做了著名的有关大气压力实验，发现了真空现象以后，真空技术迅速发展。现在，真空技术已经成为一门独立的前言学科。;真空量度单位 1标准大气压=760mmHg=760(Torr) 1标准大气压=1.013x105 Pa 1Torr=133.3Pa ;真空的基本特点 ;真空获得—真空泵;真空泵的分类;真空泵的主要参数;几种常用真空泵的工作压强范围 旋片机械泵 吸附泵 扩散泵 涡轮分子泵 溅射离子泵 低温泵 ;旋片式机械泵;2. 油扩散泵;3.涡轮分子泵;真空的测量—真空计1. 绝对真空计;2. 相对真空计;薄膜厚度的测量;真空蒸发镀;真空蒸发;丸瘫殃政舌玲兢埂肯副朗呸在宋恒肘崔瓣况卤袄纳敞朝妓自壕薪恭憾乘跳表面处理工艺PVD等表面处理工艺PVD等;常用蒸发源;In-Sn丝;NCVM工艺流程;凄瓣胃屹匈芽凸泰吐屏算譬真憨渗痕胳煎郊躲刑睦袄储粟寥停厚傣眩拌煮表面处理工艺PVD等表面处理工艺PVD等;PVD蒸镀法;金属在制成厚度低於100nm 的薄膜时,都会形成岛状不连续的金属膜,使得其电阻率大幅增加;网络分析仪;影响良率的因素 薄膜厚度 50nm 50-100nm 100nm 薄膜厚度的均匀性 钨丝篮的分布 镀膜用量的分布 空间中真空度的均匀性 喷涂的品质 杂质 橘皮 积漆 ;电子束蒸发镀;;E-Gun Crucible;常用蒸发材料形态;光学增透膜;6层AR膜：玻璃/TiO2/SiO2/ TiO2/SiO2 TiO2/SiO2 厚度范围（nm）9~13/30~40/50~80/1~15/22~40/80~90 AR宽度范围：0.6%,430~680nm;真空溅射镀;磁控溅射原理;DC ( 导电材料 ) RF ( 绝缘介质材料 ) 反应 (氧化物、氮化物) 或不反应 ( 金属 );+; 磁控溅射原理 为了提高离化率,增加溅射沉积的速率,在靶背面增加磁场是个有效的方法----电场与磁场的交互作用,使得二次电子在靶面做螺旋式运动, 大大延长了二次电子的运动行程，从而大大增加了它同气体分子碰撞的机会，从而大大地提高了离化率，增加了溅射速率。; 磁控溅射的特点 1. 离化率高，等离子密度大，从而提高了溅射速率； 2. 减少了电子对基材的轰击，从而有效地降低了基材的温升； 3. 平面靶材利用率低，只有20-30%左右，不过目前可以使用旋转圆柱靶材，可以获得70%以上的利用率。;溅射电流 ( 生长速率 ) 压强 ( 溅射粒子的最高能量 ) 压强与靶材-衬底之间的距离 (多孔性、质地、晶体性） 反应气体混合比 ( 化学配比 ) 衬底温度 ( 晶体性、密度和均匀性 ) 衬底偏压 ( 薄膜结构和化学配比 );溅射靶材;水平溅射镀;价格低。 金属薄膜厚度只有0.5～2μm，不影响装配。 环保制程，无污染。 欲溅射材料无限制 被溅射基材几无限制 膜质致密均匀、膜厚容易控制。 附著力强;工艺： 超声波清洗---烘干---辉光清洗---镀铜-（Al Ag Ni )—镀不锈钢;真空离子镀;在镀膜的同时，采用带能离子轰击基材表面和镀膜层的镀膜技术称为离子镀。离子轰击的目的在于改善膜层的性能。它借助于一种惰性气体的辉光放电，使金属或合金蒸气离子化。离子经电场加速而沉积在带负电荷的工件上。 ;离子镀应用;2、装饰性镀膜：离子镀膜设备可制备多种色泽的膜层，由浅到深的金黄色，黑色，蓝色以及彩色和复合色等等，在钟表首饰，灯具厨具及各种装饰性材料的加工过程中已被广泛运用。;高速切削工具(钻头，铣刀等)：镀---AlTiN，TiAlN等; 产品名称;????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????? ?????????????????????????????????????????????????????????????????????????