图案化液晶配向层的软刻蚀制备及应用研究pdf - 厦门大学学术典藏库.PDF

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库 要 摘 文 论 士 硕 博 学 大 门 厦 I 库 要 摘 文 论 士 硕 博 学 大 门 厦 II 库 要 摘 文 论 士 硕 博 学 大 门 厦 III 摘 要 近年来,随着光通信、液晶显示以及光电子集成电路的发展,人们对液晶的 研究日益重视,各种新型的液晶器件层出不穷。其中,液晶光栅作为一种重要的 光学器件,以其质量轻、集成度高、低功耗等特性已被广泛应用于防伪、光波导、 波束控制以及3D 显示等各个领域。 液晶光栅的制备方法很多,以利用图案化配向层控制液晶排列的方法最有代 表性。该方法将图案化技术与液晶配向技术相结合,通过对配向层进行不同的处 库 理来控制表面液晶的周期性排列,进而获得液晶的混合构型与多畴结构。它不受 要 液晶材料的限制,实现方式多样,可以制备各种高精度的液晶光栅。 摘 另一方面,软刻蚀作为一种新型的快速成型方

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