After Development Inspection Introduction 显影后检查介绍.PDF

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2017-08-05 发布于天津
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After Development Inspection Introduction 显影后检查介绍

After Development Inspection Introduction After Development Inspection Introduction AAfftteerr DDeevveellooppmmeenntt IInnssppeeccttiioonn IInnttrroodduuccttiioonn 显影后检查介绍光刻模组马万里 2007.10.15 2007.10.15 .1100..1155 目录目录目目录录 ADI作业流程和方法 ADI AADDII 常见的光刻监控图形以及作用主要缺陷类型常见异常的处理方法产品各层检验要点 ADI的一些技巧 ADI AADDII 各产品光刻图形 ADI作业流程方法 1.正面检查 1. 11.. 宏观检查（光检） 2.背面检查 2. 22.. 缺陷检查显微镜检查（镜检） ADI 线宽测量：非关键层不需要套准测量：第一层不需要常见的监控图形以及作用1 注意读数与图形针头对应的位置为读所偏方向的关系数。SH