PLM-180 光掩膜行宽测量系统.PDF

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2017-08-05 发布于天津
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PLM-180 光掩膜行宽测量系统

光掩膜行寬測量系統 (PLM-180) １．主要規格 ① 高解析度 i-line 顯微鏡單元 × 100 （NA=0.95) ② 高精準度中空的工作台單元 X,Y 軸平台with 雷射干擾計定位器 Z 軸(垂直移動) 平台 ③ 重複性 3σ≦10nm (Target spec. 5nm) ( × 100 Measurement at the center of the camera detection area） ④ 工作台定位精度 3σ≦100nm (Target spec. 50nm) ⑤ 測量行寬 0.5 ～500μｍ 0.5 ～30μｍ（工作台不移動時） 30 ～500μｍ（工作台移動時）自動測量解決方案 2 ２．系統結構1 Mask 加載單元干涉計光掩膜 Mask 儲料器 (tentative) 主體(w/o 空氣調節單元) 主體(with Mask 儲料器) 顯微鏡 ×100 ( I line) 主體 Mask 加載單元發射照明從右前方看剖視圖 3 ２．系統結構2 用來作測量的顯微鏡光掩膜 (Image contrast AF) 臺座條狀反射鏡用來做工件的預先調準的顯微鏡發射照明自動根據mask的厚度垂直運行 Z軸平台 XY軸平台