ArF液浸式扫描光刻机Proven Solutions Through Evolution.PDF

ArF液浸式扫描光刻机 Proven Solutions Through Evolution 重合精度与生产效率更得到提升 超高精度、高产出ArF液浸式扫描光刻机 ArF液浸式扫描光刻机 NSR-S631E ArF 液浸式扫描光刻机 NSR-S631E 相较于 NSR-S630D，精度与生产效率进一步提高，专为 7 nm 工艺制程的量 产（适应多重曝光）而开发，且采用了Streamlign Platform。凭借着新型投影镜头，以及对准系统更为强大的标 志检测 / 测量能力，从而实现了光刻机间的重合精度（MMO ：Mix and Match Overlay）2.3 nm 以下且产出达每 小时 270 片以上（96 shots）的极高精度与生产效率。有助于最尖端设备生产线实现稳定量产。 性　能 Resolution 分辨率 ≦ 38 nm NA NA 1.35 Exposure light source 曝光光源 ArF excimer laser (193 nm wavelength) Reduction ratio 缩小倍率 1:4 Maximum exposure field 最大曝光范围 26 mm × 33 mm Overlay 重合精度 SMO*1 2 : ≦ 1.7 nm, MMO* : ≦ 2.3 nm ≧ 250 wafers/hour (96 shots)， Throughput 产出 ≧ 270 wafers/hour (96 shots, optional) *1 Single Machine Overlay ：同一型号机器之间的重合精度（例 S631E#1 to S631E#1） *2 Mix and Match Overlay ：同一机型之间的重合精度（例 S631E#1 to S631E#2） Streamlign Platform 的主要特点 ● Bird’s Eye Control Encoder 重合精度的大幅度提高 Interferometer ・ 采用编码器与干涉仪构成的混合系统测量晶圆载物台的位置， Wafer Stage 实现了最佳工作台的性能 ・ 同时采用二维编码器测量掩模台的位置，降低了空气波动对测 Straight Line 量各工作台位置所产生的影响 Auto-Focus ・ 除了先进的对焦控制外，精度与稳定性也得到大幅度改善 ・ 重合精度提高达到 1.7nm 以下 ● Stream Alignment 同时实现了高产出与高重合精度 ・ 通过大幅扩大光束跨距的“直线自动对焦”，一次性映射在晶圆