应用于人工牙根表面处理制程最佳化研究.PDF

行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告 應用於人工牙根表面處理製程最佳化研究 研究成果報告(精簡版) 計 畫 類 別 ： 個別型 計 畫 編 號 ： NSC 99-2622-E-327-005-CC3 執 行 期 間 ：99年06月01日至 100年05月31日 執 行 單 位 ：國立高雄第一科技大學機械與自動化工程系 計 畫 主 持 人 ： 楊玉森 計畫參與人員： 碩士班研究生-兼任助理人員：葉瀚文 碩士班研究生-兼任助理人員：莊惟程 碩士班研究生-兼任助理人員：羅安成 碩士班研究生-兼任助理人員：林家豪 處 理 方 式 ： 本計畫涉及專利或其他智慧財產權，研究成果報告(精簡版)1 年後可公開查詢 中 華 民 國 100 年 07月 28 日 行政院國家科學委員會補助產學合作研究計畫成果精簡報告 應用於人工牙根表面處理製程最佳化研究 Optimalization surface treatment processing applied on dental implants 計畫類別：□ 先導型 □ 開發型 ▊ 技術及知識應用型 計畫編號：NSC 99-2622-E-327-005-CC3 執行期間：99 年06 月 01 日至 100 年05 月 31日 執行單位： 國立高雄第一科技大學 計畫主持人：楊玉森 博士 共同主持人：楊玉森 博士 計畫參與人員：莊惟程、葉瀚文、林嘉豪、羅安成 中 華 民 國 100年 07 月 26 日 1 局部電解拋光與陽極氧化處理 本計畫以利用田口實驗方法進行鈦金屬的電解拋光與陽極發色處理，在電解 拋光方面是改變電解拋光液濃度、拋光時間與電壓等參數，且針對粗糙度與亮度 進行製程開發。並設計不同夾治具，以改善拋光後的成果。此外，針對局部拋光 部分也進行夾治具的設計開發。陽極發色處理方面是控制不同的電解發色液、不 同濃度與電壓進行陽極製程開發，並進一步討論不同面積大小對 Lab值的影響。 電解拋光成果： 1. 經電解拋光逐一因子實驗結果，在最佳參數條件下， L值的平均值可達 85.43，較初始條件改善了6.05%，表面粗糙度 Ra值可達0.03μm，較初始 條件提升了31.43%。 2. 圖1.1為局部電拋的結果   圖1.1 局