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X光绕射在工业材料分析上之应用
X
自從1912年德國物理學家Max Von Laue以X光照射硫酸銅晶體發現繞
射現象以來，除了證實晶體內部組成原子具規則性排列之外，同時也為材料科
學研究提供了十分基本而有效的研究方法。早期X光繞射僅用來決定晶體的
結構，隨後其它各種用途也相繼不斷地發展。本文將針對X光繞射在工業材
料分析上之應用，做一簡單的介紹。
1 9 8 5
(Wilhelm Roentgen)X
X
0.1cm (Crystal)
X (Amorphous)
-8
X 10
cm
X
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– 50 – 80 82 8
(Unit Cell) (Group Theory) X 2θ
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100
JCPDS (Joint Committee on Powder Dif-
fraction Standards)
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