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CMOS工艺片上传输线研究 - 东南大学学报
第36卷第6期 东南大学学报(自然科 学版 ) Vol36 No6
2006年11月 JOURNALOFSOUTHEASTUNIVERSITY(NaturalScienceEdition) Nov.2006
CMOS工艺片上传输线研究
陈 勖 王志功 李智群
(东南大学射频与光电集成电路研究所,南京210096)
摘要:对深亚微米硅基CMOS工艺集成电路中常用的微带线和共面波导2种传输线结构进行了
研究.从理论上分析了传输线分布参数和损耗,利用013 mCMOS工艺制作了特征阻抗分别
μ
为50和70 的微带线和共面波导元件库,在01~30GHz频率范围内利用网络分析仪和SOLT
Ω
测试技术进行测试.利用分布参数电路模型和测试得到的S参数提取出了特征阻抗、衰减常数、
品质因数等传输线基本参数.研究结果为设计者选择和设计高性能传输线提供出可借鉴的实用
性模型.
关键词:CMOS工艺;微带线;共面波导;分布参数模型
中图分类号:TB971;TB973 文献标识码:A 文章编号:1001-0505(2006)06089205
DesignofonchiptransmissionlineinCMOSprocess
ChenXu WangZhigong LiZhiqun
(InstituteofRF&OEICs,SoutheastUniversity,Nanjing210096,China)
Abstract:ThecharacteristicsofmostcommonlyusedtransmissionlinesindeepsubmicronCMOS
ICs,microstripandcoplanarwaveguide,werestudied.Thepropertyandthecalculationofthedis
tributedparametersandlossofthetransmissionlineswereanalyzedtheoretically.Themicrostrip
andcoplanarwaveguidelibrarieswiththeZequalto50 and70 weredesignedandfabricatedin
0 Ω Ω
013mCMOSprocess,andweremeasuredinthefrequencyrangeof01-30GHzusingavector
μ
networkanalyzer.TheSOLT(shortopenloadthru)deembeddingtechniquewasutilized.Impor
tantparametersofthetransmissionlines,suchascharacteristicimpedance,attenuationconstant,and
qualityfactorwereextractedfromthemeasuredSparametersbasedoncircuitmodels.Theresultsin
dicatethatthelossysubstratehasaseriouseffecttotransmissionline.Thisworkprovidesareasona
blewaytodesignandchoosethetransmissionlinestructures.
Keywords:CMOSprocess;microstrip;coplanarwaveguide;distributedmodel
近10多年来,随着集成电路水平的不断提高, 关键部件.精确的传输线模型是电路设计的关键.
数字电路时钟频率从兆赫兹发展到了吉赫兹,电路
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