离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响.PDFVIP

第 10 卷 第 4 期 纳 米 技 术 与 精 密 工 程 Vol. 10 No. 4 20 12 年 7 月 Nanotechnology and Precision Engineering Jul. 20 12 离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响 舒 谊 ， 周 林 ， 解旭辉 ， 廖 文林 ， 李圣怡 （国防科 技 大学机 电工 程 与 自动化 学 院 ， 长 沙 4 10073 ） 摘 要 ： 基 于光 学元件 离子 束 高精 度 确 定性抛 光技 术 ，在 自行研 制 的 离子 束抛 光机 床 上 ，本 文研 究 了 离子 束倾 斜 入 射 抛 光 对 光 学材料 熔石 英表 面粗糙 度 的影 响.为 了在 离子 束抛 光 中改善 表 面粗糙 度 ，采 用 了0°～80°之 间不 同入 射 角 度 的 离子 束倾 斜 抛 光 和倾 斜45°入 射 均 匀去 除 两种 实验 方案进 行研 究 ， 其 中不 同入 射 角度 抛 光 实验研 究结果表 明 ： 离子 束 垂 直入 射抛 光较 难 改善表 面粗糙 度 ，倾 斜入 射抛 光 可 以较 好 地 改善表 面粗糙 度 ，入 射 角为30°～60°之 间时抛 光 效 果 最佳 ， 表 面粗 糙 度 得 到 明显 改善 ； 倾 斜45°入 射 均 匀去 除抛 光 实验 结 果 表 明表 面粗 糙 度 的RMS值 由抛 光 前 （ ） 下 降到 （ ） ，提 高 了光 学零 件 的表 面质 量 ，验 证 了 离子 束 倾 斜 入 射 抛 光 可 以较 好 地 改善 表 0郾92±0郾06 nm 0郾48±0郾04 nm 面粗糙 度 ，实现 了离子 束倾 斜抛 光超 光 滑表 面的生成. 关键 词 ： 离 子束 抛 光 ； 倾 斜 入 射 ； 熔 石英 ； 表 面粗糙 度 ； 超 光 滑表 面 中图分 类 号 ： 文献标 志码 ： 文章编 号 ： （ ） TH161 A 1672鄄6030 20 12 04鄄0365鄄04 Impact of Oblique Incidence in Ion Beam Figuring on Surface Roughness SHU Yi ， ZHOU Lin ， XIE Xu鄄hui ， LIAO Wen鄄lin ， LI Sheng鄄yi （College of Mechanical Engineering and Automation ， National University of Defense Technology ， Changsha 4 10073 ， China ） Abstract ： Based on the self鄄developed high鄄precision and deterministic ion beam figuring （IBF ）， the paper researched the impact of oblique incidence in IBF on the surface roughness of a typi