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光纤阵列的超声椭圆振动辅助化学机械抛光 - 中国表面工程
第 29 卷 第 3 期 中 国 表 面 工 程 Vol. 29 No. 3
2016 年 6 月 CHINA SURFACE ENGINEERING June 2016
doi: 10.11933/j.issn.1007–9289.2016.03.018
光纤阵列的超声椭圆振动辅助化学机械抛光*
a,b a,b a a
陈 涛 ,刘德福 ,佘亦曦,严日明
(中南大学 a. 机电工程学院, b. 高性能复杂制造国家重点实验室,长沙 410083)
摘 要: 为了获得平整的光纤阵列端面,设计了一套超声椭圆振动辅助化学抛光系统,并进行常规化学机械抛光和超声椭
圆振动辅助化学机械抛光的对照试验。结果表明,应用超声椭圆振动辅助化学机械抛光技术加工光纤阵列,选择合理的抛
光工艺参数,可获得质量较好的光纤阵列端面,相比于常规化学机械抛光技术,光纤的表面粗糙度降低了25% 。采用单因素
试验法,分别研究了抛光粒子材料及抛光液酸碱性对于超声椭圆振动辅助化学机械抛光的作用效果,并利用Vecco表面轮廓
仪对抛光后光纤阵列端面进行观察和分析。采用正交试验法获得了一组超声椭圆振动辅助化学机械抛光光纤阵列的优化工
艺参数,最佳工艺参数组为:超声振动频率25 kHz ,抛光液流量35 mL/min ,抛光压力50 kPa ,抛光盘转速20 r/min ,抛光粒
子质量分数0.5%。
关键词: 光纤阵列;超声椭圆振动;化学机械抛光;表面粗糙度
中图分类号: TG175 文献标识码: A 文章编号: 1007–9289(2016)03–0132–07
Ultrasonic Elliptical Vibration Assisted Chemical Mechanical Polishing for Fiber Array
a,b a,b a a
CHEN Tao , LIU De-fu , SHE Yi-xi , YAN Ri-ming
(a. College of Mechanical and Electrical Engineering, b. State Key Laboratory of high performance complex manufacturing,
Central South University, Changsha 410083)
Abstract: In order to obtain a flat end face of fiber array, an ultrasonic elliptic vibration assisted chemical polishing system is
designed, which is used for conducting a controlled trial between routine chemically mechanical polishing and the ultrasonic
elliptic vibration assisted chemical mechanical polishing
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