半导体器件辐射电离效应的激光模拟方法-太赫兹科学与电子信息学报.PDFVIP

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半导体器件辐射电离效应的激光模拟方法-太赫兹科学与电子信息学报

第 13 卷 第 1 期 太赫兹科学与电子信息学报 Vo1.13,No.1 2015 年 2 月 Journal of Terahertz Science and Electronic Information Technology Feb.,2015 文章编号:2095-4980(2015)01-0160-09 半导体器件辐射电离效应的激光模拟方法 李 沫 a,b ,孙 鹏 a,b ,宋 宇 a,b ,代 刚 a,b ,张 健 a,b* ( 中国工程物理研究院 a. 电子工程研究所;b.微系统与太赫兹研究中心,四川 绵阳 621999) 摘 要 : 因对半导体器件进行安全、快捷、无损伤的辐射效应研究及验证的迫切需求,激光 模拟辐射电离效应方法应运而生,并得到了国外科研界的推动和认可。相比于大型地面辐射模拟 装置,激光模拟方法具有许多独特优势,可为深入认识半导体器件辐射效应,开展有针对性的抗 辐射加固设计提供重要的补充手段,其研究在理论和应用方面均具有重要意义。本文简要叙述了 γ 射线、激光与半导体器件相互作用产生电离效应的主要机理,归纳了激光模拟的物理基础和主要 特点,总结了国内外发展的情况,深入分析了当前研究存在的问题,并提出了开展研究可以采取 的手段和方法。最后展望了未来值得进一步探索的研究内容和方向。 关键词 :半导体器件;辐射电离效应;激光模拟 中图分类号 :TN99 文献标识码 :A doi :10.11805/TKYDA201501.0160 Basic principles and research progress of laser simulation of ionization radiation effect in semiconductor devices a,b a,b a,b a,b a,b* LI Mo ,SUN Peng ,SONG Yu ,DAI Gang ,ZHANG Jian (a.Institute of Electronic Engineering;b.Microsystems and Terahertz Research Center,China Academy of Engineering Physics, Mianyang Sichuan 621999,China) Abstract : According to the requirements of safe, simple and nondestructive radiation effect investigation of semiconductor devices, the method of laser simulation was proposed and greatly promoted. Compared with large-scale facilities, laser simulation has various unique advantages. It helps understand the ionization radiation effect in depth and is an effective low-cost, table-top supplement for the hardness assurance. Its

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