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不同能级加速过滤电弧沉积四面体非晶碳膜的结构和性能！
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 %$ ) #) ) ， ， ， +@8 ,%$ O@ ,) 3.P78 #) （ ） !5$#*J#)J%$ ) J !!%5( 3CK3 FLMINC3 INONC3 #) C7/ , F?- , I@A , 不同能级加速过滤电弧沉积四面体 非晶碳膜的结构和性能! ） ） ） ） ） ! # ! ! $ 朱嘉琦 王景贺 孟松鹤 韩杰才 张连生 !）（哈尔滨工业大学特种环境复合材料技术国防科技重点实验室，哈尔滨 !%!） # ）（哈尔滨工业大学精密工程研究所，哈尔滨 !%!） $ ）（承德石油高等专科学校，承德 ’( ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #$ ) !% #$ ’ #* 采用过滤阴极真空电弧技术，通过施加 — 衬底负偏压使沉积离子获得不同能级的入射能量，在单晶硅 # + $ 上制备了四面体非晶碳薄膜 拉曼光谱分析表明，薄膜的结构为非晶 骨架中镶嵌着平面关联长度小于 的 , -. ! /0 # $ $ 团簇 原子力显微镜研究表明：在低能级、富 能量窗口和次高能级，薄膜中 的含量越多，其表面就越光滑， -. , -. -. 应用-.$ 浅注入生长机制能够圆满地解释薄膜表面形态与离子入射能量之间的关系；但在高能级，具有适当入射能 $ 量的离子对表面将起到溅射平滑作用，甚至可以得到比 含量最高时均方根粗糙度更低的光滑表面 纳米压入测 -. , 试表明，高能（ $ ）沉积的四面体非晶碳膜具有比不加偏压时更高的硬度和杨氏模量，并具有比 含量最高
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