TiO2和CuO掺杂对ZnO导电陶瓷中电子密度和电阻率的影响.pdfVIP

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TiO2和CuO掺杂对ZnO导电陶瓷中电子密度和电阻率的影响

TjO2和CuO掺杂对ZnO导电陶瓷中电子密度和电阻率的影响/韩丽芳等 ·l3 · TiO2和 CuO掺杂对 ZnO导电陶瓷中电子密度和 电阻率的影响 韩丽芳,王 昊 ,徐守磊 ,陈玉辉,雷镇全 ,邓 文 (广西大学物理科学与工程技术学院,南宁 530004) 摘要 测量了ZnO-TiOz和ZnO-CuO导电陶瓷的正电子寿命谱及其电阻率,研究了Ti()2和CuO掺杂对ZnO 陶瓷中电子密度和电阻率的影响。结果表明:在ZnO中加入少量的Ti02,随着Zn0陶瓷中TiOz含量的增加,样品 中的 自由电子密度升高,电阻率降低;在ZnO中加入少量的CuO,随着ZnO陶瓷中CuO含量的增加 ,样品中的 自由 电子密度降低 ,电阻率升高。 关键词 ZnO导电陶瓷 TiO2掺杂 CuO掺杂 电子密度 电阻率 中图分类号 :TB321 文献标识码:A EffectsofTi02andCuO DopantsontheElectronDensitiesand ResistivityofZnO ConductiveCeramics HAN Lifang,WANG Hao,XU Shoulei,CHEN Yuhui,LEIZhenquan,DENG W en (CollegeofPhysicalScienceandEngineering,Guangm University,Nanning530004) Abstract Thepositron lifetimespectrum and theresistivitymeasurementswereperformedontheZnO-TiO2 andZnO-CuO conductiveceramics.TheeffectsofTiO2andCuO dopantsontheelectrondensitiesandresistivityof ZnO conductiveceramicswerestudied.Theexperimenta1resultsshow thatwiththeincreaseofTi02contentinthe ZnO-basedconductiveceramics,theelectrondensitiesinthebulkandonthegrainboundariesincrease,givingriseto thedecreaseoftheresistivityofthesamples.W iththeincreaseofCuO contentintheZnO-basedceramics,theelectron densitiesinthebulkdecrease,leadingtOtheinereaseoftheresistivityofthesamples. Keywords ZnO conductiveceramic,TiOzdopant,CuO dopant,electrondensity,resistivity 位和Zn间隙都是施主型缺陷;Zn间隙的能级较浅,对本征 0 引言 ZnO的n型导电性起重要作用;Zn空位是浅能级受主型缺 ZnO是第三代半导体材料的主要代表,其禁带较宽,在 陷[17--19]。这些观点需要更多实验的支持。 室温下的禁带宽度约为 3.37eV,激发波长位于近紫外附近; 金属氧化物的掺杂对 ZnO的微观缺陷和电子密度有较 激子束缚能高达 60meV,约是GaN(25meV)的2倍,容易在 大的影响,但 由于能深入探测点缺陷和电子结构层次的实验 室温或更高温度下实现激子发射[12。Zn0具有广泛的应 手段相对较少,至今,人们对 TiO、CuO等金属氧化物在 用I2],以ZnO为主要原料,分别添加少量的 MgO、Al0、

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