TiAlN和TiCrAlN薄膜的制备和耐磨性能.pdfVIP

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2017-08-10 发布于天津
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TiAlN和TiCrAlN薄膜的制备和耐磨性能

年第期( )卷２３１４８２０１５２３４６文章编号: ( ) １００１Ｇ９７３１２０１５２３Ｇ２３１４８Ｇ０５和薄膜的制备和耐磨性能∗ TiAlN TiCrAlN , , 唐凯朱生发吴艳萍　 ( , ) 中国工程物理研究院四川绵阳６２１９０７ [ ] ７Ｇ９ : . 摘要采用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技度可达最高温度在镀层中加入　　９５０℃ TiAlN , / , , 术沉积 TiAlN TiCrAlN薄膜和 TiCrAlN TiCrN复 Cr形成 CrTiAlN镀层可继续增加镀层的抗氧化性 [ ] . ( ) １０ . 合薄膜采用扫描电镜 SEM 观察薄膜表面形貌和磨明显改善镀层的综合性能 , ( ) , 、、痕形貌射线衍射检测薄膜结构俄歇电子能磁控溅射技术溅射率高基材温度低装置性能稳 X XRD ( ) , 、 , . 谱仪 AES分析薄膜成分摩擦磨损试验评价薄膜的定操作控制方便所镀薄膜光滑致密而电弧离子镀 . , / , 耐磨损性能实验结果表明采用 TiTiN复合膜过的离子能量更高可以显著提高薄膜与基体之间的结 , ; , . 渡层可有效提高薄膜与基体的结合性能采用磁控溅合强度特别适合制备硬质薄膜电弧离子镀所制备 / , 射与电弧离子镀复合技术制备的TiCrAlN TiCrN薄的TiAlN薄膜具有良好的化学稳定性特别是抗高温、 , , . 膜表面较光滑粗糙度小与基体结合强度较高仅产氧化性本文采用电弧离子镀在高速钢表面制备了 ,