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第 43卷 第 11期 材 料 工 程 Vo1．43 No．11 2015年 11月 第 19—23页 Journa1ofMaterialsEngineering Nov．2015 PP．19—23 Ta／Pt双底层 C0／Ni多层膜的反常霍尔效应 Extra0rdinaryHallEffectonCo／NiMultilayers withTa／PtUnderlayer 俱海浪 ，李宝河。，刘 帅 ，于广华 (1北京科技大学 材料科学与工程学院，北京 100083； 2北京工商大学 理学院，北京 102488) ju Hai—lang ，LIBao—he，LIU Shuai，YU Guang—hua (1SchoolofM aterialsScienceandEngineering，UniversityofScience andTechnologyBeijing，Beijing100083，China；2SchoolofScience， BeijingTechnologyandBusinessUniversity，Beijing102488，China) 摘要 ：通过 JGP56OA型磁控溅射仪制备了一系列 以Ta／Pt为底层的 Co／Ni多层膜样 品，研究了多层膜 中Pt缓冲层厚 度 、周期层 中Co与 Ni厚度 以及多层膜周期数对样 品反常霍尔效应和磁性的影响。结果发现 ：逐渐增厚的Pt层可以使 样 品的矫顽力增加 ，但是分流作用会导致样品的霍尔电阻降低 ，通过 比较确定 Pt缓冲层 的厚度为 2nm；磁性层 中Co和 Ni都处于一定厚度范围内时，多层膜的霍尔 回线才能具有 良好 的矩形度 ，当厚度超 出其特定范围时，多层膜的矩形度会 变差 ，经过分析确定磁性层 中Co和 Ni的厚度为均 0．4nm；磁性层的周期数对样 品的性能也有着显著的影响，最终通过 对周期数优化获得的最佳样品结构为 Ta(2nm)Pt(2nm)Co(0．4nm)Ni(0．4nm)Co(0．4nm)Pt(1nm)，该样 品的霍尔 回线 矩形度非常好 ，霍尔信号明显，该样品总厚度在 7nm 以内，可进一步研究其在垂直磁纳米结构中的应用。 关键词 ：co／Ni多层膜 ；反常霍尔效应 ；垂直磁各 向异性 doi：10．i1868／j．issn．1001—4381．2015．11．004 中图分类号 ：0484．3 文献标识码 ：A 文章编号 ：1001—4381(2015)11-0019—05 Abstract：A seriesofCo／NimultilayerswithTa／Ptunderlayerwerepreparedbymagnetronsputtering technique．TheeffectofPt，Co，Nithicknessandtheperiodicnumberontheperformanceofanoma— lousHalleffectofCo／Nimultilayerswasinvestigated．Theresultsshow thatgraduallythickenedPt layerleadstoanincreaseincoercivityandlesseningHallresistanceandthethicknessofPtisdeter— minedas2nm．ThemultilayershavestrongperpendicularanisotropyduetothethicknessofCoandNi inacertainrangeandthethicknessofCoandNiistestedas0．4nm．F