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一种新型GaAs基无漏结隧穿场效应晶体管
第 ５ 卷 第 期 西 安 交 通 大 学 学 报 Ｖ ０ ２ ｏｌ．５０ Ｎｏ．２ 年 月 ’ Ｆ ２０１６ ２ Ｊ ｅｂ．２０１６ ＯＵＲＮＡＬ ＯＦＸＩ ＡＮ ＪＩＡＯＴＯＮＧＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ Ｄ ： ／ ＯＩ １０．７６５２ｘｔｕｘｂ２０１６０２０１２ ｊ 一种新型Ｇ 基无漏结隧穿场效应晶体管 ａＡｓ １ ２ ２ ２ ２ 骆东旭 ，李尊朝 ，关云鹤 ，张也非 ，孟庆之 （ ， ， ； ， ， ） 西安交通大学软件学院 西安 西安交通大学电子与信息工程学院 西安 ． ７１００４９ ２． ７１００４９ １ 摘 ： ， 要 针对隧穿场效应晶体管开态电流较低的问题 提出了一种新型 基无漏结隧穿场效应 ＧａＡｓ ， 。 ， 晶体管结构 并对其性能进行了研究 在该结构中 沟道和漏区采用具有相同掺杂浓度的 型 Ｎ 材 ， ／ ， ； ， ｎＧａＡｓ 料 实现沟道 漏区无结化 简化了制造工艺 同时为了提高开态隧穿电流 源区采用不同 Ｉ 材 ， ／ 。 ， 于沟道的 型 ａＡｓＳｂ 料 实现异质源区 沟道结构 该结构能有效增大关态隧穿势垒宽度 降 Ｐ Ｇ ， ， ， 。 低泄漏电流 同时增加开态带带隧穿概率 提升开态电流 从而获得低亚阈值斜率和高开关比 仿 ， ， 真结果表明 在 工作电压下 该新型 基无漏结隧穿场效应晶体管的开态电流为 ０．４Ｖ ａＡｓ ．６６ Ｇ ３ －
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