自催化化学沉积N—P合金的i晶化行为及性能.pdf

第 2l卷第 】期 暨南大学学报 (自然科学版 ) V0l2lNo l 2O0O年 2月 Journalof．iinanUniversity(NaturalScience) Feb．2OO0 自催化化学沉积 Ni—P合金的 晶化行为及性能 0一 7~t77, 黄岳山， 岑人经 茹长渠 - ● 。 - ’ - - - — 、 一 (华南理工大学生物力学研究所 ，广东 广卅I510641) [摘 要] 对化学沉积 Ni—P合金层的低温回火晶化处理进行了研究，分折了合金成分、晶化温度 [关键词]些兰望堡!冀．量堂塑_垦 囟】住茬『化』1rJ 锤详=矸工童曼 [中国分类号] TB331 [文献标识码] A [文章编号] 1000—9965(~01))01—0080—03 性耗 ． 化学沉积是利用金属 自催化反应原理从溶液中沉积合金 的一种表面改性技术，是 目前国 内外发展速度最挟的表面处理工艺之一 ．广泛应用于计算机 、医疗器械 、汽车 、石油化工等高 技术领域 ．化学沉积Ni—P合金有许多非常优异的优能，如镀层异常均匀，高硬度等 ．这是它 获得广泛应用的重要原因L，．由于 Ni—P合金回火处理后 ，可以达到超高的硬度值 j，从而 使化学沉积 Ni—P合金在许多功能性表面改性方面具有极大 的应用前景 ．因此 ，对化学沉积 Ni—P台金 的晶化行为进行研究以了解 晶化与硬度 的关系 ，对推动化学沉积 Ni—P台金在耐 磨金属生物材料方面的应用具有重要意义 本文在 自行研制的化学沉积 Ni—P合金工艺及配 方的基础上l4j，运用 x射线对化学沉积 Ni—P合金层的晶化行 为及影响因素进行了深人研 究 ． 1 实验方法 化学沉积 Ni—P台金 的工艺及基本配方 ： NiSO47‘H20： 10～2{】吕／L； NaH2PO2H‘20： 10～20 L NaRc： 20～3o L； NaOH： 2～5 L pH： 3．5～5 5 ： 80～85Ic Ti一6A1—4V台金表面抛光后 ，浸^ 自催化化学沉积槽 中进行化学沉积 沉积反应时间为 60min，获得 的镀层厚度为 15 ． 将镀好的试样放^真空回火炉中进行低温晶化处理 ．晶化效果及镀层 的结构采用 Y一4日 全 自动 x射线衍射仪进行测量 ． 镀层的硬度采用 7l型显微硬度计进行测量 ．测量载荷为 50g，加载时间为 l5s． 收稿 日期] 1999—11—20 基盒项 目] 国家 自然科学基金 (1977201I1和广东省 自然科学基金97o4m)资助项 目 作者茼舟] 黄岳IJI{1068～)，男，精南郴州^ ．讲师，工学博上 第 l期 黄岳山等： 自催化化学沉积Ni—P台金的晶化行为及性能 81 2 实验结果 图1为镀层在不同温度下晶化处理的x射线衍射 图谱 ．从图 1可 看出，200℃晶化处理 时，镀层结构基本上不发生变化，镀层仍保持非晶态结构；3o0 时，镀层发生了部分晶化转变，出 现了晶体衍射峰 ．镀层在 400℃回火时，发生了明显的晶化转变，镀层 已由非晶态完全转变成 胖 结构．从图1还可 以看出，不同温度下发生晶化转变的速度是不同的，温度越高，转变速度越 蒯 嘱 杂 !