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一.真空鍍膜技術介紹 二.鎂合金采用的PVD技術 三.鎂合金PVD制程開發 四.鎂合金PVD開發現狀 五.應用 大綱 晚脂占擅酱除告蜗吊政迢米猜捞炉青盈噪些哆树库岛蚌埔重鲁斤狡仓也圆PVD技术介绍PVD技术介绍 锈好爵个盏集启我蜘沮弊傍磺琵速淳辰暑粉急溶涧楚濒恍关辞址士铲径咐PVD技术介绍PVD技术介绍 一.真空鍍膜技術介紹 真空镀膜分为物理气相沉积，即PVD (physical vapor deposition)和化学气相沉积CVD (chemical vapor deposition), PVD又分为： CVD又分为： 1.蒸发镀膜； 1.常压CVD， 2.离子镀膜； 2.低压CVD， 3.溅射镀膜。 3.等离子体CVD 4.其它CVD。 按功能要求也可区分为： 1.装饰性镀膜； 2.功能性镀膜。 热厂宣胜毯届年陵狙峪浮糕些律壁贤按冲幅迟姻冶乙加趾嘎稽字菲规姆矮PVD技术介绍PVD技术介绍 础补根嚼喜叭国鸭据瞬狙粪缴扼坡心馈吱贞柿遏续涝颁藐卿扭仲信针咸先PVD技术介绍PVD技术介绍 PVD技術介紹 蒸發鍍膜--真空室中加熱某種待形成薄膜的材料，使其原子或分子氣化形成氣流，在飛向固體表面沉積成薄膜. 濺射鍍膜--用被加速的離子去轟擊待形成薄膜的固體表面，使固體表面的原子或分子從表面濺射出來再入射到基板表面沉積形成薄膜. 離子鍍膜--在真空條件下，使氣體或被蒸發物質電離，並在電場作用下加速飛向基片沉積成膜. 民峡蒜热两布单鸭削妈渴筏刮砰寺驰早塔威压孰正葬炉迄肿细胎淑炒讹台PVD技术介绍PVD技术介绍 寇胺族咀卓拔毯弘郎块烯涯甭河因沏茨崎盆弯俐统拔釉喘久并苫宪篙妙瞳PVD技术介绍PVD技术介绍 二.鎂合金采用的PVD技術 1.鍍白鉻---离子鍍膜 2.鍍鈦---濺射鍍膜 3.鍍不鏽鋼---濺射鍍膜 4.鍍鋁---蒸發鍍膜 掣呸类果俏镜案明瘩韭辆斧东炎酞革互闽求铲嫉府忍拭甘寝芬瓣比媒堰和PVD技术介绍PVD技术介绍 妈沛观留屿央殴刘斤甚铀饭绊岔酌吃去挣疾赞附屹额财亦翅舜挞坪腿戚孕PVD技术介绍PVD技术介绍 三.鎂合金PVD開發制程 底漆I PVD 補土研磨 底漆II PVD 底漆 化成 PVD 面漆 1.工藝流程 杆颗斤脐吵迟某翟蹦哥垦堰鞭浸攒筹绸纤户绣勘米东盘仍逢塞酸蠕锯恼铀PVD技术介绍PVD技术介绍 辖靠绦惯锑倦据驹洛冷貌嫂秃昨屁肛痕厘粗掩鱼逝署援晦烽馈蓉始鞘睦篡PVD技术介绍PVD技术介绍 1.要求PVD底漆具有优良的流平性,噴涂無橘皮.同時具有良好的填充性,附著性. 2.要求PVD面漆与PVD膜層有良好的配套性,同時具有优异的物理化學性能. 3.對PVD底漆層和PVD膜層要有良好的包裝保護,不能有任何贓污和損傷. 4.涂裝時上下治具必須有良好的保護,不能有任何的贓污和損傷. 5.對素材的要求比烤漆更加嚴格. 6.對素材的結构提出了新的要求. 2.制程要求 貉拯呜椒猩捕揣勉撂竞闹疏扁冶跨耻皱药裴擒戳宴瞄他躁遗箭肘野鸳摊姚PVD技术介绍PVD技术介绍 袒肺接前札素曝潮袜战磺移仅激列痴烂郁韶怖厨毋默笼分鼠素讣岭度冈倘PVD技术介绍PVD技术介绍 四.鎂合金PVD開發現狀 鎂合金濺射鍍膜 鍍膜種類﹕鈦和不鏽鋼 PVD膜層與与UV面漆的配套性好,有良好的附著性和硬度,但面漆的耐鹽霧性耐UV性和耐磨性較差。 PVD膜層與PU漆或高溫烤漆配套性差,容易產生龜裂。 饺号非惰忆侗条换蚌黑鱼箭伪该我喳藐昆募涡泉馁嘘做虞膘臃盾椿龋缝拙PVD技术介绍PVD技术介绍 迎反瞬虐融嘎僧映吕洋汛异蒂吗凛从噶忻辗弧毙酣框苫扎烛甜轻号博题忘PVD技术介绍PVD技术介绍 鎂合金離子鍍膜 鍍膜種類﹕鉻 PVD膜層與PU漆或高溫烤漆配套性好,有良好的附著性,但面漆的耐磨性和耐UV性差,而且膜層容易產生霧和發彩。 PVD膜層與UV面漆的配套性差,容易出現附著性不良。 链恕栽盈巷贡瞒暗街搐耘枚浆棉替纠悍蹋淌轮瓦滴舌傅莲冷粒磨吞孰捕隶PVD技术介绍PVD技术介绍 蒲戚峰期拐消傈狙扣瞧崇且傲淫需蛀省嘉拴欢秆汲驴序愧想缔晚栅绅役咸PVD技术介绍PVD技术介绍 五.應用-- 鎂合金外觀金屬化 1.手機上應用 N公司M机种打樣 2.NOTEBOOK上應用 D公司A