[机械标准]JBT 8946-1999 真空离子镀膜设备.pdfVIP

ICS 23. 160 J 78 JB/T 8946 1999 真空离子镀膜设备 Vacuum ion coating plant 1999-07-12 发布 2000-01-01 实施 国 家 机 械 工 业 局 发 布 JB/T 8946 1999 前 言 本标准由全国真空技术标准化技术委员会提出并归口。 本标准起草单位：沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人：金 石、李春影、李玉英。 I 中华人 民共和国机械行业标准 JB/T 8946 1999 真空离子镀膜设备 Vacuum ion coating plant 1 范围 本标准规定了 空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 -4 -3 本标准适用于压力在10 ~ 10 Pa 范围的真空离子镀膜设备 （以下简称设备），具体包括如下类型： 多弧离子镀、电弧放电型 空离子镀、空心阴极离子镀（HCD ）、射频离子镀（RFIP ）、直流放电二极 型 （DCIP ）、多阴极型、活性反应蒸发镀（ARE ）、增强型ARE 、低压等离子体离子镀（LFPD ）、电场 蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。 注：离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作 用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片上。 2 引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本 均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准必威体育精装版版本的可能性。 GB/T 6070 1995 真空法兰 GB/T 11164 1999 真空镀膜设备 通用技术条件 3 技术要求 3. 1 设备正常工作条件 3. 1. 1 环境温度：10℃~30 ℃。 3. 1. 2 相对湿度：不大于75% 。 3. 1. 3 冷 水进水温度：不高于25 ℃。 3. 1. 4 冷却水质：城市自来水或相当质量的水。 3. 1. 5 供电电源：380 V 三相50 Hz 或220 V 单相50 Hz （由所用电器需要而定）； 电压波动范围：342 ~ 399 V 或198 ~231 V ； 频率波动范围：49~51 Hz 。 3. 1. 6 设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用说明书 中写明。 3. 1. 7 设备周围环境整洁，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘 埃或气体存在。 3. 2 设备技术参数 3. 2. 1 设备的主要技术参数应符合表1 规定。 国家机械工业局 1999-07-12 批准 2000-01-01 实施 1 JB/T 8946 1999 表 1 分 档 A B 极限压力