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国立交通大学(奈米中心)
國立交通大學 (奈米中心)
LPCVD 、Sintering水平式真空爐管等設備一式
案號:A14029A
LPCVD 製程系統
06. 2015
操
作
說
明
書
森積科技有限公司
台北市內湖區陽光街 347號 4樓之 1
TEL:886-2-8797-7222 FAX:886-2-8797-2525
國立交通大學 (奈米中心)
LPCVD 、Sintering水平式真空爐管等設備一式
案號:A14029A
LPCVD 製程系統
目 錄
1. 自動爐管結構示意圖
2. 自動爐管爐架示意圖
3. 氣體管路配置圖
4. 爐管使用前注意事項
5. 氣體盤介紹
6. 可程式人機 控制使用說明
7. 故障排除
1. 自動爐管結構示意圖
MFC
N2 NH3 PH3
SiH4 SiH2Cl2
TEOS
人機觸控 PLC 爐管溫控器 爐管
螢幕 石英管內溫控器
電腦溫度
紀錄程式
可紀錄 1.設定溫度
2.管內即時溫度
3.氣體流量
4. 真空度
5.可曲線顯示
2.自動爐管爐架示意圖
三色指示燈
氣體盤
前封口
後封口
秏電電錶
滑台
自動壓力
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