显影单元腔室内流场结构分析与优化.pdfVIP

学兔兔 圃固四喹国哩 仿真，建礞ICADICAMICAEICAPP 显影单元腔室内流场结构分析与优化 尹宁。 胡延兵。卢继奎 (沈阳芯源微电子设备有限公司，沈阳 Il0168) 摘 要：匀胶显影设备中温湿度控制器(THS)为单元提供温度和湿度适宜的洁净空气，为保证单元内产生的颗粒不污 染晶片，在单元中将空气流动设计成Down Flow形式，这样能带走单元腔室中的灰尘颗粒，有利于防止晶片的颗粒污 染。由于显影单元的内部结构复杂，无法直接测量单元内部实际工作条件下的气流状态。文中采用数值模拟分析的方法 对显影单元内部进行流场仿真分析，根据分析结果对结构进行优化，以达到更理想的腔室内气体流动状态，可以节约修 改结构和复杂测试所消耗的时间和成本，缩短设计周期。 关键词：温湿度控制器：FILTER；CUP；Down Flow 中图分类号：TP 391．7 文献标志码：A 文章编号：1002—2333(2014)07—0131—03 Analysis and 0ptimization of the Inner Flow Field Structure in the Developer Unit YIN Ning， HU Yanbing， LU Jikui (Shenyang Kingsemi Microele,’troni’s Equipment C0．．Ltd．，Shenyang l 10168，China) Abstract：The tempe r‘atu,’e—humidity controller(THS)of Spin Coating Developing Device provides clean air with SUilable ant】stable tempe T-atm-P and humiditv f0r units．The flow field in unit iS designed to Down Flow to take away parti(·les anti ensuring no particle contamination on wafers．Because of the complicated internal st ructul’r．the working status of ai卜flow distribution inside the unit can t be measured directlv．a computational fluid dynamics reelhotliS used t(J studv the flow (】istribution inside the unit．The structul·e is optimize~l to achieve better air llow state．save the test time an(1 COSt．thus shorten the design cycle． Key words： FHS；FI1 TER；(：UP；D0WN Fl 0W 0 引 言 度等都随时间与空问发生随机的变化 。单元腔室内的气 为保证单个品片在显影1 艺时不受影响，必须控制 流流动，属于湍流范畴。 · 关键参数。包括：温度和时间，吸盘和清洗相关参数， 2 仿真分析 排风分布和大小等。。 良好的排风可以使腔