【2017年整理】光刻工艺介绍1.pptVIP

下载本文档

20
0
约1.12千字
约 50页
2017-05-06 发布于浙江
举报
版权申诉

【2017年整理】光刻工艺介绍1.ppt

1、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

【2017年整理】光刻工艺介绍1

光刻工艺介绍1;General Photolithography Process;涂胶/显影概况;涂胶菜单;前处理（PRIMING）;涂胶前处理（Priming）;HMDS;涂胶（Coating）;☆涂胶的关键在于控制膜厚及其均匀性影响光刻胶厚度和均匀性的主要参数：[括号内的值为实际工艺参数设置] 环境温度（23°C) 环境湿度(40%) 排风净压力(5 mmaq) 光刻胶温度(23°C+/-0.5）光刻胶量（1.2-1.5cc) 旋转马达的精度和重复性回吸量预旋转速度预旋转时间最终旋转速度最终旋转时间最终旋转加速度 ;涂胶——均匀性的影响因素(1);涂胶——均匀性的影响因素(2);软烘（Soft Bake）;Post Exposure Bake;显影菜单（DNS 5#）介绍;显影前烘焙（Post Exposure Bake）;驻波效应（Standing Wave）;Footing and Undercut;显影（Develop）;坚膜（Hard Bake）;PR/HMDS影响;解决PR/HMDS造成的显影缺陷的措施：检查HMDS的流量是否正常，温度是否设置恰当，必要时，可以考虑试用不同厂家的HMDS ???同PR和显影液菜单的组合，对显影缺陷的影响程度不一样，如PR 20#菜单/DEV 5#搭配与DEV 10#菜单搭配对某些层次有不同的影响。如不同的搭配都可以用于某一层次，那么，考虑最终选那一种方案，则要考虑对显影缺陷的影响。 ;脱胶原因;常见Track异常-显影缺陷;胶回溅;Step-and-Repeat System;Stepper Introduce;NIKON机光路图;Reticle Blind; 漏光对Mask图形的影响;产品的异常表现;+;IDOF、UDOF;Image Defocus;Defocus Effect;Focus-Exposure Matrix;各层次MATRIX STEP参考条件;Defocus 产生的原因;边缘效应;边缘效应;Auto Focus;Auto Focus; 一般情况下，圆片和光刻胶并不是理想化的平坦，于是当处于边缘的BLOCK执行SHIFT FOCUS 时，选择INTRASHOT 来执行SHIFT FOCUS 比较容易得到正确的信息。 ;Auto Leveling;Auto Leveling;Auto Leveling;Auto Leveling(III);STAGE颗粒/圆片背面颗粒导致聚焦不良;STAGE颗粒/圆片背面颗粒导致聚焦不良;Alignment Process;Alignment System