材料现代研究方法 第一章 组织形貌分析概论.ppt

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材料现代研究方法 第一章 组织形貌分析概论

材料现代研究方法 Modern Methods of Materials Analysis ;参考书目;课程内容; 第 1 篇 组织形貌分析 ;第一章 组织形貌分析概论;1. 1 组织形貌分析的含义;1. 1 组织形貌分析的含义;钛靶局部被单脉冲激光烧蚀;铁素体的晶粒和晶界;Si表面(111)原子图像—Si原子空位;1. 2 组织形貌显微技术的 三个发展阶段;0.1;它的最高分辨率为0.2μm,是人眼的分辨率的500倍。 ;铁素体的晶粒和晶界;2.2 光学显微镜的分辨率;2.2 光学显微镜的分辨率;3.1 电子显微镜发展历程;3.2 扫描电子显微镜简介;钛靶局部被单脉冲激光烧蚀;头发分叉处;4.1 扫描探针显微镜简介;4.2 扫描隧道显微镜图像 ;图中的“IBM”是由单个氙(Xe)原子构成的 ;三位诺贝尔物理学奖获得者;;第二章 光学显微技术;1. 1 光学显微镜的四个发展阶段;1.2 恩斯特·阿贝;2. 光学显微镜的成像原理;2.1.1 什么是波的衍射?;光强;由于衍射效应,物体上每个物点通过透镜成像后不会是一个点,而是一个衍射斑——埃利斑。如果两个衍射光斑靠得太近,它们将无法被区分开来。 埃利斑第一暗环半径 其中,n 为物方介质折射率,? 光源波长, ? 透镜孔径半角,M 透镜放大倍数,n sin? 数值孔径。埃利斑半径与照明光源波长成正比,与透镜数值孔径成反比。 ;2.2.1 阿贝成像原理(重点); 1. 不同物点的同级衍射波在后焦面的干涉 ——形成衍射谱; 2. 同一物点的各级衍射波在像面的干涉——形成反 映物的特征的物像。;2.2.2 物与像之间的相似性 ;3. 光学显微镜的构造和光路图;4. 显微镜的重要光学技术参数;4.1 数值孔径;4.1 数值孔径;4.2.1 瑞利判据;4.2.2 透镜的分辨率;4.3.1 放大率和有效放大率;4.3.2 光学显微镜的有效放大率;4.4 光学透镜的像差;(2)色像差 ;(3)像域弯曲 ;5. 样品制备;5.1 取样;5.2 镶样;5.3 磨光;5.4 抛光;5.5 腐蚀;铁素体的晶粒和晶界;本章重点;思考题:

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