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GENCOA 阳极层线性离子源 一、 技术特点 GENCOA 公司产 IM 离子源属于阳极层离子源。其基本原理相当于一个倒置的磁控阴极， 因此属于 GENCOA 传统技术优势能力范围内。阳极层离子源属于无栅极离子源，最大的特 点在于容易实现大面积化离子源、无栅极（意味着不受栅极源的 change 效应限制，有更高 的离子流密度和可以在反应气氛下长时间工作）、离子能量在 100-1500 EV 较宽的范围内（主 要取决于工作电压、工作气压、气体流量、阴极 gap 宽度等）、离子源成本相对较低、维护 简单；缺点是原理决定了离子能量分布 energy spread 比较发散。适合做大面积镀膜的清洗、 表面改性和力学薄膜的辅助沉积（对于较高要求的光电薄膜的辅助沉积不是太适合）。相对 于同类进口阳极层离子源其主要特点在于聚焦模式下工作电压可以低至 200-250V，采用石 墨阳极。 二、应用范围 离子束轰击的作用主要是：清洗基片表面污染物（本征氧化物等污染物、含碳氢化合物等）、 增加薄膜结合力、减少基底缺陷、增加基片表面能、基片表面粗化、离子辅助沉积（致密化 薄膜）。 不同离子源的适用情况如下图所示： 阳极层离子源的主要竞争离子源类型包括考夫曼离子源和霍尔离子源，其适用范围区别如下 表所示： 因此，阳极层离子源重点应用在大面积镀膜的离子清洗以及辅助沉积、工具镀膜、塑料基底 改性等。主要的客户群体类型是塑料基片镀膜和工具镀涂层。 三、GENCOA 离子源 FAB 分析 主要相对于同类进口产品 FEATURE ADVANTAGE BENEFIT 聚焦模式最低工作电压 利于离子辅助沉积工艺 低至 200-250V 相应的离子平均能量可以低 某些薄膜工艺希望较低能量 同类竞争对手产品的工作电 至 100-150 eV 离子轰击，避免高能离子轰击 压大于 500-1000V 损伤 石墨阳极 减少阳极材料所造成的污染 同类竞争对手多为不锈钢材 更低的阳极溅射产率 更大离子流密度 质 30 分钟内更换金属阴极（不 维护操作方便简单、可靠快捷 阴极结构优化设计 用动真空密封） 客户非标产品的设计制造同 以标准件的价格 整个流程计算机模拟 样快速、成本较低 享受量身定做的质量服务 四、竞争对手 由于阳极层离子源的技术相对比较简单，同类产品生产厂家很多。其中国外主要竞争对手包 括美国 AE、VEECO、AP