原位GCMS离子源清洁和调节.PDFVIP

Agilent JetClean 智氢洁离子源： GC/MS 原位 离子源清洁和调节 应用简报 作者 摘要 GC/MS Harry Prest 维护是在样品分析过程中保留分析目标的普遍要求。快速柱内反吹 GC/MS GC 是 维护过程中的一次重要改进，能够改善离子源并延长 使用寿 研发化学家 命，并在不放真空的情况下快速完成气相色谱柱和进样口维护。另外，消除 生命科学与化学分析事业部 污染离子源的后洗脱组分已成为压力控制三通配置的突出特点。通过这些改 美国加利福尼亚州圣克拉拉市 进，离子源清洁频率显著降低，但是仍然需要进行清洁。冷却仪器、从分析 仪中取出离子源、机械清洁离子源、更换离子源、重新抽真空以及对分析仪 进行重新调谐和调节以改善系统灵敏度，整个过程可能需要操作人员花费大 Agilent JetClean 量的时间。 智氢洁离子源能够将冷却、取出、手动清洁、更 换和抽真空等步骤替换为原位过程，从而节省了时间，减轻了操作人员的负 担。为除去积聚的物质并恢复离子源性能，智氢洁离子源处理中形成的氢类 物质改变了离子源内部的条件。本应用简报介绍了智氢洁离子源的两种操作 方法。 前言 GC/MS 维护在 运行过程中是不可避免的。气相色谱进 样口和色谱柱性能下降后，需要进行维护（如衬管、隔 垫更换和色谱柱切割等）。维护的频率取决于样品的类 型、进样的批次、载气质量及许多其他因素。目的是使 气相色谱系统性能恢复至既定标准，通常将其视作目标 化合物在校准标样中的响应。如果在分析了多个样品批 次后，仅靠气相色谱维护无法恢复响应，这时就需要进 GC/MS 行质谱维护（离子源清洁）。（使用“快速通用 [1,2,3] 1. 6 反吹”技术 可延长质谱维护周期，保持质谱响 图 响应与采集的样品批次之间的关系。每 个批次执 应，并在不放真空的情况下快速完成气相色谱维护。这