半导体器件知识点归纳一.docVIP

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半导体器件知识点归纳一

一、半导体器件基本方程 1、半导体器件基本方程 泊松方程、电流密度方程、电子和空穴连续性方程的一维微分形式及其物理意义 2、基本方程的主要简化形式 泊松方程分别在N耗尽区和P耗尽区的简化形式 电流密度方程分别在忽略扩散电流和漂移电流时的简化形式 P型中性区电子净复合率、N型中性区空穴净复合率 P区电子和N区空穴的扩散方程及其定态形式 电子电流和空穴电流的电荷控制方程及其定态形式 注:第一章是整个课程的基础,直接考察的概率很小,一般都结合后面章节进行填空或者计算的考察,理解的基础上牢记各公式形式及其物理意义。 二、PN结 1、突变结与缓变结 理想突变结、理想线性缓变结、单边突变结的定义 2、PN结空间电荷区 理解空间电荷区的形成过程 注:自己用概括性的语句总结出来,可能考简述题。 3、耗尽近似与中性近似 耗尽近似、耗尽区、中性近似、中性区的概念 4、内建电场、耗尽区宽度、内建电势 内建电场、内建电势、约化浓度的概念 内建电场、耗尽区宽度、内建电势的推导 电场分布图的画法 内建电势的影响因素 Si和Ge内建电势的典型值 注:填空题可能考察一些物理概念的典型值,这部分内容主要掌握突变结的,可能考计算题,不会完全跟书上一样,会有变形,比如考察PIN结的相关计算;对于线性缓变结,只需记住结论公式即可。 5、外加电压下PN结中的载流子运动 正向电压下空穴扩散电流、电子扩散电流、势垒区复合电流的形成过程 反向电压下空穴扩散电流、电子扩散电流、势垒区产生电流的形成过程 正向电流很大反向电流很小的原因 6、PN结能带图 PN结分别在正向电压和反向电压下的能带图 注:所有作图题应力求完整,注意细节,标出所有图示需要的标识 7、PN结的少子分布 结定律:小注入下势垒区边界上的少子浓度表达式 少子浓度的边界条件 中性区内非平衡少子浓度分布公式 外加正反向电压时中性区中少子浓度分布图 注:书上给出了N区的推导,尽量自己推导一下P区的情况,加深理解 8、PN结的直流伏安特性 PN结的扩散电流密度公式 正向导通电压的定义及其影响因素 Ge和Si PN结正向导通电压的典型值 9、PN结的反向饱和电流 PN结反向饱和电流的计算公式 PN结反向饱和电流的影响因素 10、薄基区二极管 薄基区二极管的定义 薄基区二极管势垒区两旁中性区中的少子浓度分布图 薄基区二级管的扩散电流密度公式 11、大注入效应 包含准费米能级的正反电压下PN结的能带图 小注入条件和大注入条件的概念 大注入下的结定律:大注入下势垒区边界处少子浓度表达式 大注入自建场的形成过程 韦伯斯托(Webster)效应的概念 大注入条件下电子和空穴电流密度表达式 转折电压的概念及计算公式 转折电流的概念及计算公式 注:大注入自建场的形成和韦伯斯托效应很可能考简述题 12、PN结的击穿 PN结反向击穿的概念 引起反向击穿的主要机理 碰撞电离及碰撞电离率的概念 雪崩倍增及雪崩倍增因子的概念 Ge和Si雪崩倍增因子的计算公式 雪崩击穿条件 雪崩击穿电压的近似计算公式(包括Ec的表达式) 雪崩击穿的影响因素 注:结的结构对雪崩击穿电压的影响要会自己推导,可能考计算题 隧道效应及齐纳击穿的概念 齐纳击穿条件 雪崩击穿和齐纳击穿的比较 热击穿的概念及防止措施 注:热击穿不要求计算 13、PN结的电容 势垒电容的定义、物理意义及计算公式 扩散电容的定义、物理意义及计算公式 势垒电容和扩散电容的比较 14、PN结交流小信号等效电路 交流小信号参数及等效电路 15、PN结的开关特性 存储时间、下降时间、反向恢复时间的概念 引起反向恢过程的原因(少子存储效应) 减小反向恢复时间的方法 注:这部分不会要求计算 PN结部分势垒区产生复合电流的内容可以自己稍微看看,考的概率不是很大

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