陶瓷二氧化锆晶粒的透射电镜研究概要.pptx

陶瓷ZrO2晶粒的透射电镜研究 目录 一 陶瓷ZrO2简介 二 研究方法 三 样品制备 四 结果与讨论 五 结论 一 陶瓷ZrO2简介 陶瓷ZrO2是一种重要的氧化物陶瓷多晶材料，它在制造功能陶瓷组件、压电组件、离子交换器、陶瓷发动机零件及合成宝石等方面有桌广泛的用途。 二 研究方法 晶粒尺寸是影响陶瓷性能的主要因素之一。陶瓷ZrO2的物相组成及稳定性与其晶粒尺寸密切相关；同时，ZrO2晶粒尺寸对陶瓷ZrO2材料的韧性、耐磨性及塑性形变的性质都具有显著的影响。因此，陶瓷ZrO2晶粒形貌、尺寸及结晶形态的透射电镜观察和研究，对指导陶瓷ZrO2的生产工艺、评价陶瓷ZrO2的性能以及研究其力学行为与显微结构之间的关系都具有重要的指导意义。 透射电镜的光学原理 透过样品的电子束强度，经过物镜聚焦方大在其平面上形成一幅反映这些信息的透射电子像，经过中间镜和投影镜进一步放大，在荧光屏上得到三级放大的最终电子图像，还可将其记录在电子感光板或胶卷上。透射电镜和普通光学显微镜的光路是相似的。 实验原理 在透射电镜下试样的图像主要是由弹性散射电子束和衍射电子束形成。弹性散射电子束和衍射电子束所形成的电子显微像包括明场像、暗场像及电子衍射花样。图1显示出明场像和暗场像的成像原理。明场像是使用处于焦平面的物镜光阑在像平面上成像。暗场像是使透射束偏离光阑孔，而某衍射束通过光阑在像平面成像。选择不同的成像方式，可以得到不同衬度的电子显微像，通过这些成像模式的选择可以达到研究晶体显微形貌和结构的目的。 试样制备 用机械减薄方法将块体减薄至0.03mm，用直径为3mm的铜环黏住并裁出薄片中欲进行透射电子显微分析的区域，再用Dimple仪进行凹坑处理，最后使用离子减薄仪在4kV，5mA条件下进行20°，15°，10°的逐级减薄至穿孔，用真空镀膜仪对所得的薄晶体喷镀一层无定型碳膜，以起到试样的导电作用。 使用JEM-2010HR型透射电子显微镜进行观察，配备Gatan 894 CCD成像系统和Oxford Inca X射线能谱仪；透射电镜的点分辨率为0.23nm，加速电压为200kV。 实验结果 图2a是陶瓷ZrO2晶粒的明场像。从图中可见，像衬度比较复杂，不仅存在由晶体学取向差异所形成的衍射衬度，还存在质量厚度数值差异所形成的质量厚度衬度，故无法观察到各片状晶体的具体形状。 图2c为该区域的电子衍射花样。在一个选区衍射范围内有若干个晶粒，各自有不同的晶体取向，多套单晶电子衍射花样重叠在一起。经电子衍射分析，圆形电子衍射是由陶瓷ZrO2的（101）晶面产生。 在暗场成像模式下使用束偏转装置调整电子束的入射角度，使多个相邻的101衍射束通过物镜中心，同时采用适当孔径的物镜光阑仅让通过物镜中心的衍射束参与成像，结果如图2b所示。 根据图像衬度的差异，从图2b里可划分出Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ四个晶体，亮的区域对应衍射激励强的晶体，暗的区域对应衍射弱或不产生衍射的晶体。图像衬度显示ZrO2晶体形状规则，呈六方片状堆积，排列紧密，晶体间的接口平滑清晰，晶体尺寸比较均匀，粒径范围在305nm到410nm之间。经射线能谱仪分析，该区域内各颗粒均由Zr和O元素所组成，未发现其他金属元素存在。 在试验中，选择另一区域进行相同的中心暗场成像操作，同样可以根据衍射衬度的差异，清晰地观察到相邻晶粒的体貌特征（见图2d）。 实验结论 综上所述，陶瓷ZrO2相邻晶粒之间的衬度差异主要是有晶体学取向差所形成，晶粒间取向的连续变化是衬度变化的主要原因。暗场技术有利于显示这种取向衬度，能够更显著地反映晶粒之间衍射条件的差异，便于快速观察多个ZrO2，晶粒的形貌特征，测量各个晶粒的大小，从而揭示晶粒尺寸与材料的强度，断裂韧性及塑性等宏观力学性质的相互关系。通过倾斜照明系统使多个衍射束通过物镜光轴中心成暗场像，是观察分析多晶固体试样内晶粒形貌特征的快速简便的方法。