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高能电子束剂量学 高能电子束剂量学 电子束的产生 电子束剂量学 电子束的计划设计 产生电子束 展宽电子束 经加速和偏转后引出的电子束束流发散角很小，可认为是单能窄束，必须展宽才能用于治疗。展宽的方法有两种： 1.在电子束出射窗下方加散射箔，利用电子束易于散射的特点，将其射线束展宽 2.利用电磁偏转的原理，采用窄束扫描的方式形成均匀的宽束 展宽后射线质的变化 电子束射线质的描述方法 准确描述用能谱分布 临床上用模体表面的平均能量或最可几能量表示射线质 限定电子束 电子束限光筒限定电子束的照射范围，形成不同大小的规则射野 高能电子束剂量学 电子束的产生 电子束剂量学 电子束的计划设计 中心轴百分深度剂量曲线 可分为剂量建成区、高剂量坪区、剂量跌落区和X射线污染区 能量对PDD的影响 照射野大小对PDD的影响 源皮距对PDD的影响 随SSD增加，表面剂量降低，最大剂量深度变深，剂量梯度变陡，X射线污染略有增加 射野均匀性和半影 射野均匀性用均匀性指数U90/50表示，后者是指深度R85/2处90%与50%等剂量分布所包含的面积之比表示，当射野面积100cm2时，U90/500.7，并且该平面内的峰值剂量?103%。 半影用射野边缘80%至20%等剂量线之间的距离表示(P80/20)。当能量10Mev时，为10-12mm；当能量?10Mev时，为8-10mm。 电子束射野的等剂量分布 电子束的输出剂量 由于电子易于散射，输出剂量随限光筒大小的变化没有明显的规律；由于不同厂家的限光筒设计有所不同，对同样大小的限光筒，输出剂量会不同。 输出剂量随SSD变化 治疗电子束是加速管中的经加速的一窄电子束，经偏转经过出射窗、散射箔、监测电离室、限束系统等而扩展成宽电子束。后者可近似认为是从出射窗下方某一点发出，输出剂量随SSD变化可按从这一点到人体的距离做距离平方反比修正得到。这点称为有效源，这个距离称为有效源皮距 确定有效源皮距的方法是将电离室放置于水模体中射野中心轴dm处，将限光筒末端至水模表面的空气间隙g调至不同大小，分别测量输出量 有效源皮距与能量和射野面积的关系 斜入射对PDD的影响 斜入射增加dm的侧向散射，使dm向表面移动，电子束穿透能力减弱 斜入射的影响可用笔形束模型解释 斜入射时中心轴剂量计算 中心轴深度d处的剂量 其中 斜入射对剂量分布的影响 表面不规则对剂量分布的影响 大的组织不均匀性组织 用等效厚度法计算大的等厚不均匀性组织对剂量的影响，等效厚度 ，其中CET是不均匀性组织相对于水的电子密度。然后用距离平方反比因子 修正剂量。 小的组织不均匀性组织 小的不均匀性组织会在边缘处产生剂量热点和冷点 不规则射野 用足够厚的低熔点铅制成挡块形成所需要的射野形状,使射线束透过率降至=5% 不规则射野 用足够厚的低熔点铅制成挡块形成所需要的射野形状 挡块对剂量参数的影响 射野输出剂量随挡铅射野的减小而增加。低能时增加大约1% ，高能时增加大约6%。 当能量10Mev时，挡铅射野的PDD基本不变；当能量?10Mev时，挡铅射野的PDD会降低，并且剂量梯度变小。 电子束模拟筒 电子束的内挡块 内挡块用于保护被遮挡区后方的正常组织，但会因为反向散射而造成被遮挡区前方的剂量增 附加低原子序数材料 在挡块前方附加低原子序数材料，可以减少反向散射引起的增加。 组织补偿 组织补偿器可补偿体表不规则的外轮廓，减弱电子束的穿透能力，提高皮肤剂量。 组织补偿材料有石蜡、聚苯乙烯和有机玻璃，其密度均接近与1g/cm3 。 高能电子束剂量学 电子束的产生 电子束剂量学 电子束的计划设计 高能电子束照射 常用单野照射浅表肿瘤，选择合适的能量，保证靶区后缘所处深度的PDD约为90%。能量可近似选择为(3d后+2或3)Mev。 为保证靶区包括在90%的等剂量线内，射野应比靶区横径大20% 如有必要，可选择两个能量加补偿器的方法保证射野入射一侧的靶区剂量 两挡电子束合成 电子束照射技术 SSD照射技术 常用 SSD误差显著影响照射剂量 SAD照射技术 几乎不用 旋转照射技术 少用 相邻野设计：两电子束射野 相邻野设计： 电子束射野和x(?)射线野 相邻野设计： 电子束射野和和调强的x(?)射线野 ICRU Report No.71:Prescribing,Recording, and Reporting Electron Beam Therapy Content Introduction Volumes Physical characteristics of electrons General recommendati