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Back light〈背光源〉 液晶Panel的背面所设置光源。萤光灯管（热阴极管或冷阴极管）、导光板、扩散板所构成。 Contrast Ratio〈对比度〉 此为黑色与白色之间的对比。比值越高，色彩越鲜明。 FPC Flexible Printed Circuit；可弯曲印刷电路。 Inverter 〈换流器〉 DC/AC换流器主要应用于TFT 面板背光源之power supply。它使用高电压来驱动冷阴极射线管。此独特的电力仪器具有高瓦特数、高效能及坚实小巧的设计。 LVDS Low Voltage Differential Signaling；数字显示接口，具有高效能、高速与低功率消耗等特色。 Laser Anneal〈雷射回火〉 低温多晶硅与非晶硅最大差异在于，LTPS 的薄膜晶体管TFT，经过雷射回火 (Laser anneal)的制程步骤；利用雷射作为热源，雷射光经过投射系统后，会产生能量均匀分布的光束，投射于非晶硅结构的玻璃基板上，当非晶硅结构玻璃基板吸收雷射的能量后，会转变成为多晶硅结构 QCIF (Quarter Common Intermediate Format): QCIF 为视讯会议格式，其每秒可传输30页的资料，每一页有144行、每一行有 176画素(pixel)。 其分辨率为CIF之1/4。QCIF为 ITU H.261 视讯会议之标准。CIF 及QCIF互为兼容并适用于NTSC, PAL 及SECAM三种TV标准。 White Chromaticity 为衡量RGB三原色的均衡值的测量方法。较高之色温产生偏蓝的白色； 较低的色温产生偏红的白色。 A a-Si amorphous silicon 以材料结构而言，amorphous的意思是指未结晶的状态。Amorphous silicon膜具有作为半导体材料之特性，可用plasma CVD装置在400℃以下的温度下形成。因此成为使用玻璃基板之主动矩阵（active matrix）方式液晶面板的TFT主力组件材料。 英： Amorphous means lacking distinct crystalline in material structure’s term. Amorphous silicon film has the quality that can be used as material of semiconductor. It can be formed by using plasma CVD equipment under temperature of 400 degree C. Therefore, it is the major material for manufacturing TFT of LCD panel, which uses glass substrate with active matrix. a-Si TFT amorphous Silicon Thin Film Transistor 以amorphous silicon为构成材料之电场效果型的薄膜晶体管。带有source、drain、gate三种电极之3端子组件。最常使用为主动矩阵（active matrix）液晶显示器的开关。 英： The Field Effect type TFT with amorphous silicon material contains three terminal components of three types of electrodes: source, drain, and gate. They are often used as the switch of active matrix type LCD. ACF Anisotropic Conductive Film 英： 异方性导电膜，指含有导电性粒子之热硬化或热可塑性的树脂薄膜。主要用于液晶显示面板与驱动IC之讯号传输连结，需针对不同之接合接口选择适合导电粒子及密度，一般而言用于fine pitch之导电粒子其直径约为3~5 um。 Anisotropic conductive film means the thermosetting or thermal plastic resin film which contains conductivity particle. It is used major in LCD panel, and to drive the signal connection, transmitting in IC. Different