SP_2溅射台操作说明供参习.docVIP

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SP_2溅射台操作说明供参习

SP-2型 磁控溅射台 说 明 书 中国科学院微电子研究所 SP-2型溅射台系统控制示意图 图1 SP-2型磁控溅射台操作说明 1.接通电源: .接通溅射台总电源(配置415V\32A三相四线制); .开电源机柜面板上的“总电源”开关。 .打开冷却水(压力2.5公斤)总开关。 2.开盖装片: .打开“放气阀”,使腔体充气约5分钟,指示灯灭。 注意:一定要使腔体充至大气压强,在腔体尚存压差之前绝对不允许按“升盖”! .“放气阀”按钮灯灭后,按住“升盖”按钮,使腔体盖升到合适位置; .进行装片,调整溅射靶挡板,清洗或换观察窗内的玻璃片; .按 “降盖”按钮,使上盖与腔体对齐盖好; 3.抽真空: .按“机器泵开”开关,按下 “预抽阀开”开关,预抽低真空; .开真空计电源,选择低真空测量档; .当真空度至4~5Pa,按下 “预抽阀关”开关,“预抽阀关”灯亮后,按下 “前级阀开”开关,打开前级阀,右旋 “高阀”旋钮至“ON”位置,指示灯亮,打开高阀。当真空度至5Pa时,开分子泵电源,按下分子泵电源面板上的“启动”按钮。 .打开冷却水总开关。 .抽工作室至高真空,准备溅射。 加热烘烤: 设定烘烤温度值,右旋“烘烤”旋钮至“ON”的位置上。 此步骤也可省略,待工艺要求而定。 选择溅射方式: 射频溅射、直流溅射需要选择靶位,选择开关如图2所示。 选择使用几号靶。溅射靶位置图见图3所示。 图2 图3 通气: .待真空达到所需真空度后,打开气路“总阀”,气路图如“图1”。 .选择需用气体,流量显示仪开关置于“阀控”,打开要使用气体的气路阀门; .调节流量至设定值; 定时: .确定采用定时或不定时。 .若采用定时,设定时间显示器(自左至右各位分别为×10分、×1分、×10秒、×1秒)。 启辉工作 一.直流工作条件: .将挡板挡至预溅靶上方; .首先将直流功率调至最低,然后开直流电源开关;再逐渐加大直流电源功率,直至所需功率。 注:选择“不定时”,开直流电源开关即启辉。若选择“定时”,开直流电源开关后还需按一下定时器“复零”钮,即可启辉工作,溅射结束后自动关闭直流电源。 预溅射后,打开“旋转”开关,同时打开挡板,开始溅射; 二.射频工作条件: .打开射频电源“灯丝”开关加热5分钟; .首先将输出功率调至最低,再开射频“板压”开关; 注:选择“不定时”,开射频电源“板压”开关即启辉。若选择“定时”,开射频电源“板压”开关后还需按一下定时器“复零”钮,即可启辉工作,溅射结束后自动关闭射频电源。 .启辉后调节匹配器的“C1调节”和“C2调节”, 使反射功率指示最小。如果气流,电压等条件不变,匹配只需开始调节一次,但如条件变化,则重新调节匹配; .调好匹配后,增加功率至设定值(此间还需调节匹配); 注:1.启辉时,如反射功率很大,应先降低功率,待调好匹配(反射功率最小)后,再提高功率。这对保护电源使之不受损坏是很重要的。 2.溅射时,一定要通冷却水,否则能严重损坏溅射靶。 取样品步骤 .溅射结束后先关射频或直流电源。 .关闭连接气体的阀门“阀1”或“阀2”,将流量显示仪阀控开关拨至“关闭”档,关闭总阀。 .左旋“高阀”旋钮至“OFF”的位置,高阀旋钮灯灭,关闭“高阀”。 .按下 “放气阀”按钮,打开放气阀,使腔体充气。 .“放气阀”按钮灯灭后,按下“开盖”按钮,使腔体盖升到合适位置。 .取样品。 .按下“关盖”按钮,使上盖与腔体对齐盖好。 .按下“前级阀关”开关,“前级阀关”灯亮后,按下“预抽阀开”开关,预抽真空室。当真空度至5Pa,按下“预抽阀关”开关,“预抽阀关”灯亮后,按下“前级阀开”开关,右旋 “高阀”旋钮至“ON”位置,打开高阀。 关机步骤: 1.溅射结束后先关射频或直流电源; 2.将所有气路阀门及总阀关闭,将流量显示仪拨至“关闭”档; 3.按分子泵“停止”按钮,稍后关分子泵电源;关闭“高阀”。 4.分子泵停止10分钟后,按下“前级阀关”开关。 .关水,按下“机械泵关”开关。 .检查所有旋钮及开关都应为“关”的位置上,关总电源。 注:1)溅射台在不工作时,所有的气路阀门(包括流量计)应处于“关闭”状态。 2)溅射完毕后,若不继续溅射,可开机械泵抽真空约5分钟后关机,使腔体内保持在真空状态。 10.注意事项: 不要随意打开四周侧盖和触动机械或电路部分。万一发生故障请来电话联系咨询后再动手修理。或由我们去人修理。

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