1NSR的概要.docVIP

1. NSR的概要 1.1 NSR的動作原理 NSR是縮小投影Reticle上的図形、以Step and Repeat方式、在Wafer上曝光的装置。 基本構成如図1-1所示。 被超高圧水銀灯照明的Retice図形、通過縮小投影鏡頭、180°回轉後、縮小投影到Wafer stage上的 Wafer之上。(図1-2) Wafer由真空固定在Wafer stage上、辺進行XY方向移動、辺進行曝光。 Wafer stage的位置由激光干渉儀高精度地進行管理、可以将Wafer正確地移動到曝光位置。 Stage的座標原点在正対NSR右前面的位置、以離開此処的距離決定座標位置。 Stage上有被称為Fiducial mark的基準Mark。 使用此Mark和激光干渉儀、可以測定Reticle或Wafer Alignment傳感器的座標位置。 1.2 装置構成 1.2.1 NSR的名称 NSR的産品名按如下形式取名。 N S R – 2 0 0 5 i 9 C ① ② ③ ④ ⑤ ⑥ ① NSR為「Nikon Step and Repeat exposure systems」的略称。 ② 表示最大曝光範囲。 200為正方形□20.0mm的曝光範囲。 ③ 表示投影鏡頭的投影倍率。 5是表示将Reticle上的図形以1/5倍投影到Wafer上。 ④ 表示曝光光波長。 i是表示使用由超高圧水銀灯発出的光中的i線。 ⑤ 表示NSR本体的型式名。 此数字越大意味着是越新模型的NSR。 ⑥ 表示投影鏡頭的型式。 同様的□20mm1/5倍、使用i線的鏡頭中、以A或B進行区別。 1.2.2 NSR的構成 NSR由本体部、環境腔体、控制櫃構成。 本体部是将Reticle上的図形投影曝光到Wafer上的装置、処在環境腔体内。 環境腔体是調整本体部的環境(温度、清潔度)的空調機。 控制櫃内装有各控制Unit、進行本体的控制。 1.2.3 本体部 図1-5為本体部的右側図。 (根据NSR的型式、各Alignment傳感器的位置請参照2-2) (1) 照明系統 有作為光源的超高圧水銀灯、控制曝光時間的快門、限制曝光範囲的Blind等。(図1-6) (2) Reticle alignment部 使用対准Reticle位置被称為Reticle顕微鏡的傳感器。(図1-7) i9型有RX1Y,RX2θ二個Reticle顕微鏡。 G8/i8型及G7/i7型有RX,RY,Rθ三個Reticle顕微鏡。 (3) Reticle loader部 将収納在Reticle盒内的Reticle自動地搬送到本体、並且、進行Reticle上的異物検査。(図1-8) (4) Wafer loader部 将装在装片盒内的Wafer自動地搬送到Wafer stage上。 装片台有二個、右側称為Right装片台、左側称為Left装片台。 而且、還附加有Extra装片台。(選項、聯線方式中不帯。) 因為装片盒為搬入、搬出共用、所以搬送到本体、等曝光結束後、再回到同一位置。(図1-9) (5) Wafer stage部 有左右方向移動的X-Y Stage、上下方向移動的Z Stage、只回轉某個角度的θStage、補正Shot 内平坦度的Leveling Stage。 (6) LSA[Laser Step Alignment] 通過掃描処在激光光束下Wafer之上的Mark、検査出Mark、計算Wafer中心位置(X, Y座標)、